等离子清洗机的几种频率区别与运用

等离子处理设备广泛应用于等离子刻蚀、等离去胶、等离子涂覆、等离子灰化、等离子处理和等离子表面处理等场合。通过其等离子表面处理，能够改善材料表面的润湿能力，使多种材料能够进行涂覆、涂镀等操作，增强粘合力、键合力，同时去除有机污染物。

一、等离子清洗机的频率

等离子清洗机常用的等离子体激发频率有三种：激发频率为40kHz的等离子体为超声等离子体，13.56MHz的等离子体为射频等离体，2.45GHz的等离子体为微波等离子体。不同等离子体产生的自偏压不一样，超声等离子体的自偏压为1000V左右，射频等离子体的自偏压为250V左右，微波等离子体的自偏压很低，只有几十伏，而且三种等离子体的机制不同。超声等离子体发生的反应为物理反应，射频等离子体发生的反应既有物理反应又有化学反应，微波等离子体发生的反应为化学反应。超声等离子体清洗对被清洁表面产生的影响Zda，因而实际半导体生产应用中大多采用射频等离子体清洗和微波等离子体清洗。而超声等离子则应用于表面除胶、毛刺打磨等处理方面效果Z佳，典型的等离子体物理清洗工艺是在反应腔体中加入氩气作为辅助处理的等离子体清洗；氩气本身是惰性气体，等离子体的氩气不和表面发生反应，而是通过离子轰击使表面清洁。典型的等离子体化学清洗工艺是氧气等离子体清洗。通过等离子体产生的氧自由基非常活泼，容易与碳氢化合物发生反应，产生二氧化碳、一氧化碳和水等易挥发物，从而去除表面的污染物。以物理反应为主的等离子体清洗，也叫做溅射腐蚀（SPE）或离子铣（IM），其优点在于本身不发生化学反应，清洁表面不会留下任何的氧化物，可以保持被清洗物的化学纯净性，还有一种等离子体清洗是表面反应机制中物理反应和化学反应都起重要作用，即反应离子腐蚀或反应离子束腐蚀，两种清洗可以互相促进，离子轰击使被清洗表面产生损伤削弱其化学键或者形成原子态，容易吸收反应剂，离子碰撞使被清洗物加热，使之更容易产生反应；选用40KHZ超声等离子再加入适当的反应气体，可以有效去除胶质残渣、金属毛刺等等，2.45GHz的微波等离子常用于科研方面及实验室。

二、离子体清洗机、等离子清洗器的功能

各式基材在印刷或黏着前之表面活化、改质、接枝、粗糙化或清洁等。

三、等离子清洗机产品特色

1.处理均匀性佳

2.离子能量低、不损伤基板

3.没有电极及基板的污染

4.ZL设计之特殊等离子电极，电极寿命长，维修成本极低

5.高密度等离子源，等离子效率高、清洁效率高可控制低的离子能量工艺环保，不产生颗粒污染，无臭氧及氮氧化物产生，无需单独排气系统

6.等离子刻蚀机处理速度快、清洁效率高、可靠度高

7.操作范围广

8.全自动且容易操作，处理效果好，速度快，材料处理后时效性长

9.等离子清洗机设备稳定高，容易维护