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Gatan SmartEMIC 电子束感应电流测量系统
品牌:美国Gatan
型号:Gatan SmartEMIC
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德国IDE PAD系列主动隔振台
品牌:德国IDE
型号:PAD系列
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徕卡 透射光底座 TL3000 Ergo 和 TL5000 Ergo
品牌:徕卡显微系统
型号: TL3000 Ergo 和 TL5000 Erg
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徕卡 1200万像素的独立式显微镜摄像头 FLEXACAM C1
品牌:徕卡显微系统
型号: FLEXACAM C1
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基恩士 光纤内窥镜附件 VH-F
品牌:日本基恩士
型号:VH-F
- 产品品牌
- 不限
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纳克微束 离子溅射仪ISC-1000
- 品牌:纳克微束
- 型号: ISC-1000
- 产地:大兴区
纳克微束离子溅射仪ISC-1000采用高性能旋片泵快速产生一个<1-2Pa的真空压强,通常真空时间小于3-5分钟。采用高品质恒功率磁控溅射电源,以确保恒定镀膜沉积速率。
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Gatan PECS 682 精密刻蚀镀膜系统
- 品牌:美国Gatan
- 型号: PECS
- 产地:美国
仪器简介:型号682精密刻蚀镀膜仪(PECS™) 用于SEM、TEM和EM方面的精密刻蚀镀膜系统 PECS™是一台理想的具有斜面切割,样品刻蚀和离子溅射镀膜功能的仪器,其刻蚀和溅射镀膜系统中的离子束能够形成镀膜范围大、干净以及可视的样品满足扫描电镜(SEM),透射电镜(TEM)以及光学显微镜(LM)的需求。PECS™中的设计结构使其成为非常通用的仪器,可选配型号682.40000的斜面切割工具,它是用于切割横截面部分的独特工具。技术参数:规格: 离子源 离子枪
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Gatan PECS II 685 精密刻蚀镀膜仪
- 品牌:美国Gatan
- 型号: PECS II 685
- 产地:美国
产品功能介绍Gatan公司的精密刻蚀镀膜仪 (PECS™) II 是一款桌面型宽束氩离子抛光及镀膜设备。对于同一个样品,可在同一真空环境下完成抛光及镀膜。品牌介绍美国Gatan公司成立于1964年并于70年代末进入中国市场。Gatan公司以其产品的高性能及技术的先进性在电镜界享有极高声誉。作为设计和制造用于增强和拓展电子显微镜功能的附件厂商,其产品涵盖了从样品制备到成像、分析等所有步骤的需求。产品应用范围包括材料科学、生命科学、地球物理学、电子学,能源科学等领域, 客户范围涵盖科研院所,高校,各类检测
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Hitachi ZoneSEM II 扫描电子显微镜样品清洗仪
- 品牌:日立
- 型号: ZoneSEM II
- 产地:日本
ZONESEMⅡ台式样品清洗器采用基于紫外线的清洗技术,最大限度地减少或消除电子显微镜成像的碳氢化合物污染。 在大气条件下准备、处理或储存样品可能会增加试样上的碳氢化合物堆积,而在电子束的影响下,这些碳氢化合物会在表面形成厚厚的一层。用ZONESEMⅡ清洁样品表面可以去除碳氢化合物,并减少光束引起的污染的可用分子。防止试样表面的污染对电子显微镜的真实观察至关重要。 ZONESEMⅡ利用真空控制的紫外线照射和活性氧,在成像前温和地去除试样表面的碳氢化合物,而无需使用任何化学品或试剂。第二
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Hitachi ZoneTEM II 透射电子显微镜样品清洗仪
- 品牌:日立
- 型号: ZoneTEM II
- 产地:日本
创新的ZONETEM II桌面样品清洗器采用基于紫外线的清洗技术,最大限度地减少或消除电子显微镜成像的碳氢化合物污染。ZONE为分析前的样品准备提供了易于使用的清洁,确保从你的TEM样品中获得最佳数据。 由于样品制备或储存,样品表面不可避免地被碳氢化合物污染。ZONETEM II台式样品清洗器可以轻柔地去除这些污染,从而显示出你的样品的真实表面。 ZONETEM II利用真空控制的紫外线照射,在不使用任何化学品、供应气体或试剂的情况下,在成像前轻轻地、快速地 "清洁 "标本表面。第二代ZONE样品清洗机具
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Hitachi Evactron E50 等离子清洗设备
- 品牌:日立
- 型号: Evactron E50
- 产地:日本
产品介绍:等离子体样品清洗设备Evaction E50主要用于场发射扫描电镜样品和样品室内碳氢化合物、有机物和表面碳污染的清洗。Evaction E50可以安装在电镜交换仓或样品室内,利用等离子体进行清洗,也可以用紫外线进行清洗,无需切换到低真空模式即可使用,射频功率高达50W,清洗效率高。 主要特点:n 清洗效率高(射频功率50W)n 等离子体和紫外线双重清洗n 高真空模式下运行,真空范围大n 无损清洗n&
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Hitachi PP3010 冷冻传输系统
- 品牌:日立
- 型号: PP3010
- 产地:日本
PP3010冷冻传输制备系统(Cryo-SEM/Cryo-FIB )PP3010是一款高度自动化、易于使用、镜筒一体式安装、过冷氮气制冷的冷冻传输制备系统,与市面上大多数主要品牌和型号的普通扫描电镜、场发射扫描电镜和聚焦离子束(FIB ) 双束电镜均可配套。PP3010具备快速冷冻、处理和转移样品所需的所有设施。冷冻制备腔室采用涡轮分子泵抽至高真空,包含用于冷冻断裂、自动升华和溅射镀膜等工郸口装置。处理之后,样品将从制备腔室传输到高度稳定的扫描电镜冷台上进行观察。制备腔室和扫描电镜腔室中的冷阱确保整个过程
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Hitachi Q300T D/T Plus 大型样品仓多靶材料离子溅射仪
- 品牌:日立
- 型号: Q300T D/T Plus
- 产地:日本
电容式触摸屏,灵敏度高,更易触控使用 • 用户界面软件全面更新,使用现代智能手机技术界面 • 全面的文字帮助页面 • USB接口可轻松进行软件更新,也可将配方文件备份/复制到USB存贮器 • log文件格式为.csv,内含日期、时间和工作参数,可导出至Excel或类似软件中分析 • 允许多用户输入和储存镀膜方案,并可根据近期的使用情况来排列每个用户的配方 • 双核ARM处理器,可实现快速响应的显示;带触摸屏按钮的全图形界面,包括近期使用的1000个镀膜日志和维护到期时的提醒等功能 • 可拆卸式玻璃腔室,容易清洁底座和顶板,设有防爆罩。如有必要,用户可以快速更换腔室,以避免敏感样品的交叉污染。高腔室选项可避免样品过热,提高溅射的均匀性和承载较高尺寸的样品 • 双头溅射-适用于顺序溅射镀膜;磁控冷溅射,脉冲清洁用于溅射Al(铝) • 可选的双膜厚监控附件(FTM) • 大而多色的LED指示灯,实现可视化状态指示;程序完成后具有音频声音提示
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瑞奇精密 QG-500A TFT 触摸屏 玻璃裂片机
- 品牌:深圳瑞奇精密
- 型号: QG-500A
- 产地:深圳
TFT 触摸屏、玻璃裂片机名称: TFT 触摸屏 玻璃 裂片机型号:QG-500A一、概要薄片裂片机切割台主要是采用进口刀轮。X、Z 轴由滑轨传动。刀口限位模式采用微分头调节,切刀 装置带弹簧缓冲机构。二、技术参料表
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徕卡 EM ICE 高压冷冻仪
- 品牌:徕卡显微系统
- 型号: EM ICE
- 产地:德国
Leica EM ICE 高压冷冻仪定格重大发现时刻高压冷冻能够捕捉精细结构和细胞动力学的错综变化。结合光刺激或电刺激的高压冷冻技术是您获得新发现的平台。同步到毫秒的冻结和刺激能够冻结您最感兴趣的那一刻 以纳米尺度和毫秒时间精度冻结和解析高动态过程在高压下冷冻固定您的含水样品,并发现世界的秘密为什么采用电刺激?为了解决神经生物学中有争议的问题,采用新技术来可视化细胞活动非常必要。采用电刺激的 Leica EM ICE 可在定格时提供毫秒级的精确度和完整的放电协调,从而可为神经生物学
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徕卡 EM AFS2 冷冻替代仪
- 品牌:徕卡显微系统
- 型号: EM AFS2
- 产地:德国
Leica EM AFS2 是一款冷冻替代仪,可以用于冷冻替代技术,梯度变温技术(PLT技术),以及后续树脂渗透和包埋聚合。冷冻替代技术是指,利用甲醇、丙酮等有机溶剂在低温条件下替代样品中所含水分,这通常是高压冷冻固定的后续步骤。梯度变温技术(PLT)则可以对常规化学固定样品进行脱水及树脂渗透。最后,Leica EMAFS2 利用紫外线进行聚合,样品聚合硬化后可进行超薄切片和免疫标记。主要技术参数:• 温度范围:-140°C ~ +70°C可控• 液氮容积35L,一次充满可维持
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徕卡 EM GP2 自动投入冷冻仪
- 品牌:徕卡显微系统
- 型号: EM GP2
- 产地:德国
EM GP2 EM GP2 自动投入冷冻仪出色的可重现性和样品质量升级版 EM GP 自动投入冷冻仪基于我们的座右铭“支持用户、服务用户”而设计,以实际相关的方式将性能和灵活性结合起来。 EM GP2 通过自动吸液除去多余液体后,将摊铺在电子显微镜栅格上的液体或极薄样品快速冷冻为液态乙烷。 样品冷冻前保存在温度和湿度可控的环境箱中,该环境箱温度可在 +4°C 和 +60°C 之间调节,箱内湿度可调至 99%。用户安全单颗粒分析和低温断层摄影样品制备安全且可重复特制快速冷凝液化器头方便二次冷冻
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徕卡 EM Cryo CLEM 冷冻光镜电镜联用系统
- 品牌:徕卡显微系统
- 型号: EM Cryo CLEM
- 产地:德国
冷冻电子显微镜THUNDER EM Cryo CLEM成像系统是一款采用THUNDER技术光电联用的冷冻光学显微镜。 它提供了成功进行结构生物学实验研究所需的成像数据和安全冷冻条件。 通过高分辨率、实时去除焦外模糊信号的THUNDER技术成像,从而精确识别感兴趣的细胞结构,然后将样本无缝传送到电子显微镜。优点包括:采用 THUNDER 技术进行快速、高分辨率的成像,实时去除焦外模糊信号 精确、无缝地将图像数据传输到不同的电子显微镜解决方案在整个成像工作流程和样本传送过程中保持最佳的冷冻条件&
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徕卡 EM VCT500 真空冷冻传输系统
- 品牌:徕卡显微系统
- 型号: EM VCT500
- 产地:德国
Leica EM VCT500 真空冷冻传输系统使用徕卡EM VCT500,你可以在冷冻或常温,真空或保护气体条件下传输样品。 始终连接徕卡 EM VCT500始终连接连接您的工作流程系统凭借主动样品冷却和全新的阀门概念优化您的样品传输对接后在工作流程中随时监控样品的温度和真空度为什么需要真空冷冻传输?样品在不同的制备和分析系统之间传输时必须得到保护,以免保护不足导致样品受到污染和形成冰晶。为什么选择徕卡 EM VCM 和徕卡 EM VCT500? “只有保存完好
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徕卡 EM ACE900 冷冻断裂系统
- 品牌:徕卡显微系统
- 型号: EM ACE900
- 产地:德国
Leica EM ACE900 冷冻断裂系统在样品制备领域高端冷冻镀膜技术的简便性和速度上实现一个突破玻璃化冷冻结构对环境影响极其敏感,需要对其加以保护以免形成假象。在理想条件下制备用于详细图像评估的样品:在样品周围采取冷屏蔽措施,避免水分子在样品上冻结在整个过程中精确控制温度清洁的刀具 – 每次切片均使用干净的刀片,避免污染及时、迅速的电子束镀膜,捕获详细的表面信息在受保护的真空状态下转移到其他分析系统所有这些要求均可在一台仪器中实现 - Leica EM ACE900!Leica EM
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徕卡 EM TP 光镜和电镜组织处理机
- 品牌:徕卡显微系统
- 型号: EM TP
- 产地:德国
EM TP 组织处理机为您带来的优势: 消除人工制备样本可能引起的不一致问题 确保批次之间的可重复性 一次运行处理不同类型的组织 保持环境条件
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徕卡 EM KMR3 玻璃制刀机
- 品牌:徕卡显微系统
- 型号: EM KMR3
- 产地:德国
徕卡玻璃制刀机Leica EM KMR3自从1962年生产出全世界第一台玻璃制刀机,彼卡显微系统一直致力于技术革新,制作高精度玻璃刀。平衡断裂法的核心在于,玻璃条划痕两侧所承担的重量和压力精确相等,并且,玻璃条与其下方支撑的接触面越小越好,Leica EM KMR3严格按照这一理论设计,仪器机械部件精确平衡配重,高精度不锈钢半球支撑坡璃条下方,确保坡璃条100%平衡断裂,制作出高品质的刀锋。仪器采用人体工学设计,使用简单舒适。主要技术参数:• 采用平衡断裂法原理断裂*• 碳化铛切割滚轮,持久耐用,并自
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徕卡 EM FC7 冷冻超薄切片系统
- 品牌:徕卡显微系统
- 型号: EM FC7
- 产地:德国
高品质切片系统徕卡显微系统为用户带来最新的样品制备技术:Leica EM UC7 超薄切片机以及 Leica EM FC7 冷冻超薄切片附件,这是前所未有 最简单最精准的超薄切片机,高品质的切片,适用于光学显微镜,电子显 微镜及原子力显微镜。Leica EM UC7Leica EM UC7 超薄切片机可以进行半薄和超薄切片,为光学显微镜,透射电子 显微镜,扫描电子显微镜和原子力显微镜提供表面完美平整的切片。符合人 体工学的外观设计,内部精密机械设计,直观的触摸屏
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徕卡 EM AC20 自动染色机
- 品牌:徕卡显微系统
- 型号: EM AC20
- 产地:德国
Leica EM AC20超薄切片自动染色机减少用户接触有毒试剂的机会,并有效节省试剂消耗。 仪器采用蠕动泵和非接触式阀门设计,试剂直接从管路系统进入样品仓,快速高质量双染色,维护简单。 生物样品的主要元素组成是碳、氢、氧,原子序数很低,因此在电镜观察之前一般要进行重金属盐染色,用以加强其反差。一般使用醋酸双氧铀和柠檬酸铅双重染色法。 安全 减少用户接触有毒试剂的机会,保证用户安全。 节省 试剂消耗量低,节省费用。 高效 一组试剂可进行60次染色,简短的清洗管路系统,提高清洗效率,并提高实验室维护操作效率
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徕卡 EM RAPID 多功能修块机
- 品牌:徕卡显微系统
- 型号: EM RAPID
- 产地:德国
EM RAPID徕卡多功能修块机为制药企业量身定制的Leica EM RAPID药片研磨系统,可对固体药片进行处理,用于分析药片中有效成分的分布情况。EM RAPID徕卡荧光显微镜利用钨钢刀或者钻石铣刀研磨药片,使药片内部暴露出来,且无交叉污染,速度300-20000rpm可调,可逐步控制研磨过程,噪声低,带有吸尘装置,并有单样品台和多样品台可供选择。主要优势:多样品台多样品台即可以在一张坡片上放置多个药片,研磨完成后,直接使用近红外光谱仪(NIR) 进行分析,提高效率节省时间。垂直观察可将样品台旋转90
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徕卡 EM TIC 3X三离子束研磨仪
- 品牌:徕卡显微系统
- 型号: EM TIC 3X
- 产地:德国
Leica EM TIC 3X 三离子束切割仪效率和灵活性新版 EM TIC 3X 恪守我们的格言:与用户合作,使用户受益”,以注重实用性的方式将性能和灵活性理想融合。最新的 EM TIC 3X 切割速度翻倍,根据您的应用需求提供五种不同的载物台供您选择,实用性得到进一步提升。可复制的结果Leica EM TIC 3X 三离子束切割仪可制备横切面和抛光表面,用于扫描电子显微镜 (SEM)、微观结构分析 (EDS、WDS、Auger、EBSD) 和 AFM 科研工作。使用 Leica EM T
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英国 ConnectomX Katana 超薄切片机
- 品牌:英国ConnectomX
- 型号: Katana
- 产地:英国
Katana是来自英国ConnectomX公司的超薄切片机升级组 件, 其原型机于2018年完成研发并在SEM上测试。经过一年 的改进和完善,第一台商业化的Katana切片机于2019年在显 微镜和微量分析大会(美国)上发布。Katana目前被欧洲体 电镜成像中心广泛使用。 Katana可以安装在任意一台扫描电镜样品仓内。其钻石 刀从样品块表面切去一个薄层(最薄至15纳米),结合背散 射电子对块表面进行序列成像,从而采集样品的超微结构信 息。通过不断重复该过程以实现样品的三维模型重建。 katana尺寸小巧,高度只有56毫米,并可以在几秒钟内从SEM 机台上安装和拆除,使你常规的扫描电镜能够简单快速地完 成序列块表面扫描电镜(SBF-SEM)的升级。
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2KV PCB可焊高压电源模块(15PPM低温漂/5mV超低纹波/极性接反保护/PMT电源/质谱
- 品牌:西安威思曼
- 型号: MCP
- 产地:
【型 号】 MCP
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英国Deben拉伸台_2KN & 5KN
- 品牌:英国DEBEN
- 型号: 2KN & 5KN
- 产地:英国
仪器简介:精心设计的MICROTEST 2KN & 5KN拉伸测试模块,可和扫描电镜、光学显微镜、原子力显微镜或X射线衍射系统配套用来实时观察样品的高应力区。Windows操作系统下的软件可设置驱动参数以及在电脑屏幕上实时显示应力/应变曲线。载荷力范围从150N到5KN,加载速率范围从0.005mm/min到 50mm/min,可涵盖绝大多数应用。所有拉伸台都设有用于测量延伸率的线性标尺和用于控制速度的光学编码器。可选项目包括加热和冷却组件、三点和四点弯曲试验夹具、纤维样品夹具和显微镜安装适配器。
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MCL 原子力学音叉
- 品牌:美国MCL Think Nano
- 型号: Tuning Forks
- 产地:美国
FeaturesLow CostAvailable in small quantitiesReady to use - no cylindrical "can" packaging to removeTypical ApplicationsScanning Probe Microscopy (SPM)Atomic Force Microscopy (AFM)Near-field Scanning Optical Microscopy (NSOM)nano-characterization and nano
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离子溅射仪 喷金仪
- 品牌:日本SHINKKU VD
- 型号: MSP-1S
- 产地:日本
技术参数: 真空泵连接真空室,控制单元提供电压。 主机的真空室含有金-钯合金靶,玻璃罩样品底座。 "O"型密封封闭真空系统. 顶部的阴极和磁偏转体统连成一体。 喷金仪上的工作电压固定,电流可调. 仪器底座面积:20cmX35cmX34cm,重量14 kg。 其他可选的靶材: 铂,Pt-Pd,Au。(客户需另外购买主要特点:MSP-1S 喷金仪主要是为钨灯丝扫描电子显微镜的样品制备而设计的专用喷金仪. 其主要部件
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超薄切片机
- 品牌:美国RMC
- 型号: PowerTome-XL
- 产地:美国
仪器简介:RMC超薄切片机具有典雅豪华的造型设计、卓越超群的产品性能,其前身Sorvall公司于1953年推出了世界上第一台超薄切片机,之后60年的历史中,一直处于领xian地位。RMC超薄切片机采用机械驱动,有效克服了重力驱动切割较硬或不均匀样品时产生颤痕的缺点。该切片机技术**,性能可靠,其底座具有防震动抗干扰作用,高质量的立体变焦显微镜可进行全范围调节,拥有ZG的切片定位装置,方便的操作按钮,切片厚度最小可达到5纳米,是光学显微镜、电子显微镜及红外线显微镜的专业制样工具,广泛应用于动植物组织、医学、
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全自动组织处理仪Automatic Tissue Processor
- 品牌:美国RMC
- 型号: EMP-5160
- 产地:美国
仪器简介:EMP-5160是一台用于电子显微镜样品制备的自动处理仪器.它是通过样品在20个试剂瓶中连续顺序地运转,来完成样品的固定、脱水及包埋,整个样品处理过程由微处理器精确控制。样品放置在各样的样品篮中,在电磁铁和马达驱动装置控制下,实现样品篮从一个试剂瓶到另一个试剂瓶的移动。试剂瓶的温度、样品浸泡时间等参数均可通过程序编制器便捷地设定.该处理仪为用户提供了可靠、灵活、大容量、自动的样品制备方案,广泛应用于生物、医学等材料的光镜和电镜样品制备。 TheEMP5160isaproductivity
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冷冻干燥仪
- 品牌:日本SHINKKU VD
- 型号: VFD-21S
- 产地:日本
技术参数:Power Source: 100VAC, Power consumption 500w. Rotary Pump: 20L/min. Maximum vacuum attains 2 Pa without load. Vacuum Level: Maximum 4 Pa in operation. Size of Specimen Chamber: Pyrex glass, 120mm (inner-diameter) x 65mm height.
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高精度凹坑仪
- 品牌:美国FISCHIONE
- 型号: 200
- 产地:美国
技术参数: Independent speed adjustment for specimen and wheel rotation 样品和砂轮分别转速可调 Automatic zeroing process 自动零位调整 A 40X optical microscope 40倍光学显微镜 Automatic termination 减薄到设定厚度时自动终止 Continuous readout of
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电解双喷仪
- 品牌:美国FISCHIONE
- 型号: 110
- 产地:美国
主要特点:The Automatic Twin-Jet Electropolisher is an apparatus for the electrolytic thinning of TEM specimens. The twin-jet technique simultaneously polishes both sides of the specimen, creating electron transparent specimens within a few minutes. A photodet
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DE-12直接电子探测相机
- 品牌:美国Direct Electron
- 型号: DE-12
- 产地:美国
DE-12常用技术指标适用的加速电压范围 80 keV 1.25 MeV像素点大小 6.0 μm像素阵列尺寸 4096 × 3072 | 12.6 megapixels成像面积 25 × 18 mm单电子信噪比(与加速电压有关) >20:1 @ 200 keV芯片设计 >3T的CDS像素设计 | 芯片打薄 | 抗辐照设计连续帧率 多达40fps,无bin的完整图像 多达75
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DE-20直接电子探测相机
- 品牌:美国Direct Electron
- 型号: DE-20
- 产地:美国
DE-20常用技术指标适用的加速电压范围 80 keV 1.25 MeV像素点大小 6.4 μm像素阵列尺寸 5120 × 3840 | 19.7 megapixels成像面积 33 × 25 mm单电子信噪比(与加速电压有关) >20:1 @ 200 keV芯片设计 >3T的CDS像素设计 | 芯片打薄 | 抗辐照设计连续帧率 多达32fps,无bin的完整图像 子阵列
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DE-16直接电子探测相机
- 品牌:美国Direct Electron
- 型号: DE-16
- 产地:美国
DE-16常用技术指标 适用的加速电压范围80 keV 1.25 MeV像素点大小6.5 μm像素阵列尺寸4096 × 4096 | 16.8 megapixels成像面积27 × 27 mm单电子信噪比(与加速电压有关) >50:1 @ 300 keV芯片设计>3T的CDS像素设计 | 芯片打薄 | 抗辐照设计连续帧率多达60fps,无bin的完整图像多达120fps,2×bin的完整图像子阵列可达 1000+ fps(取决于尺寸大小)数据采集模式 积分模式 | 电子计数模式 (可自由选
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三离子束切割仪 Leica EM TIC 3X
- 品牌:徕卡显微系统
- 型号: Leica EM TIC 3X
- 产地:德国
为您带来的优势 ding级性能 独特的三离子束系统,可获得**的截面处理质量,并可GX获得宽且深的切割区域,大大降低工作时间。并可实现在一次处理过程中最多处理3个样品。因此对有高通量需求的实验室,徕卡EM TIC 3X是**解决方案。 可装配系统 根据您的样品制备需要,可以有针对性地在徕卡EM TIC 3X上装配一体化设计样品台-标准样品台,多样品台或冷冻样品台。 冷冻样品台 针对温度敏感型样品如橡胶或水溶性高分子聚合纤维等,可以使用冷冻样品台对样品进行低温下处理,获得高质量处理结果。样
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氩离子截面抛光仪
- 品牌:日本电子
- 型号: IB-09510CP
- 产地:日本
氩离子截面抛光仪(CrossSectionPolisher,简称CP),凝聚了日本电子科技人员多年的梦想与实践,是扫描电镜、电子探针、俄歇电镜、EBSD分析等应用领域革命性创新发明。自2004年日本电子发明该仪器以来,在全世界迅速普及。用CP切割截面的方法甚至已经成为一种加工方法-CP法被定义下来,在很多论文里度可以查到。氩离子截面抛光仪顾名思义是使用氩离子束轰击样品表面进行样品加工,用其他方法难以制备的样品,软硬材质混合的复合材料,都能够制备出wan美光滑的截面。除了表面极为平整外,被加工区域变形小、损
- 电镜附件
- 仪器网导购专场为您提供电镜附件功能原理、规格型号、性能参数、产品价格、详细产品图片以及厂商联系方式等实用信息,您可以通过设置不同查询条件,选择满足您实际需求的产品,同时导购专场还为您提供精品优选电镜附件的相关技术资料、解决方案、招标采购等综合信息。