原子层沉积概述

原子层沉积系统为一种在化学、材料科学领域进行应用的工艺试验仪器。原子层沉积为一种能够在基底表面通过单原子膜形式一层一层的镀物质的方法。原子层沉积类似于普通的化学沉积。然而新一层原子膜的化学反应在原子层沉积过程中是直接关联之前一层的，该种方式使每次反应仅仅沉积一层原子。

原子层沉积概述

单原子层沉积，又被叫做原子层沉积或原子层外延，由芬兰科学家shou先提出并且在研制多晶荧光材料ZnS:Mn以及非晶Al2O3绝缘膜时得到应用，平板显示器采用这些材料。因为这一工艺对于复杂的表面化学过程和低的沉积速度均有所涉及，一直到上世纪80年代中后期，该技术均没有取得实质性的突破。

然而20世纪90年代中期，这一技术越来越受到人们的关注，因为微电子和深亚微米芯片技术的发展，不断降低器件和材料的尺寸为基本的要求，然而器件中的高宽比却持续增加，如此所使用材料的厚度向着几个纳米数量级降低为主要的原因。

所以，越来越体现了原子层沉积技术的优势，例如单原子层慢慢沉积，也就体现出了沉积层非常均匀的厚度以及十分优秀的一致性，沉积速度慢的问题也就变得不是太重要。原子层沉积的应用和原子层沉积技术的发展、原子层沉积设备、原子层沉积与其他相关技术的比较以及原子层沉积原理和化学为如下所要讨论的话题。