磁控溅射设备的主要用途

磁控溅射仪为一种用于物理学领域的分析仪器，于2015年05月25日启用。

磁控溅射为物理气相沉积的一种。金属、半导体、绝缘体等多材料的制备通常会采用一般的溅射法，其的特点为有着较为简单的设备，控制起来不困难，有着较大的镀膜面积以及有着较强的附着力等。在上世纪 70 年代发展起来的磁控溅射法更是使高速、低温、低损伤得以实现。由于高速溅射是在低气压下进行，必须要使气体的离化率得到有效地提高。磁控溅射利用将磁场往靶阴极表面引入，通过磁场约束带电粒子来使得等离子体密度提高进而使得溅射率增加。

磁控溅射设备的主要用途

1、光学领域：中频闭合场非平衡磁控溅射技术已经应用于光学薄膜（如增透膜）、低辐射玻璃和透明导电玻璃等方面。尤其是透明导电玻璃在平板显示器件、太阳能电池、微波与射频屏蔽装置与器件、传感器等方面得到了非常广泛的应用。

2、在机械加工行业中，自从表面功能膜、超硬膜，自润滑薄膜的表面沉积技术出现以来就一直有长足的发展和进步，可以使表面硬度、复合韧性、耐磨损性和抗高温化学稳定性能得到非常有效的提高，从而使涂层产品的使用寿命得到大幅度地提高。除了在上述的领域大量地应用磁控溅射，在高温超导薄膜、铁电体薄膜、巨磁阻薄膜、薄膜发光材料、太阳能电池、记忆合金薄膜研究方面，磁控溅射所发挥的作用也至关重要。