软-硬X射线光电子能谱专题学术讲座
X射线光电子能谱（XPS）是一种重要的表面分析技术，其原理是用X射线辐照样品表面，通过检测激发的光电子，实现对材料表面成分及化学态信息的精准表征。
近期，清华大学材料中心实验室采购了全球最先进的实验室软-硬X射线光电子能谱仪--PHI GENESIS 900，集常规软X射线光电子能谱（XPS）、硬X射线光电子能谱（HAXPES）、紫外光电子能谱（UPS）、低能量反光电子能谱（LEIPS）以及冷/热台等为一体，打造了多功能实验平台。上述技术不仅可进行元素定性与定量分析，结合微聚焦扫描技术更能获取元素与化学态的空间分布图像，配合离子溅射技术还可实现深度剖面分析，利用冷/热台可完成原位XPS-HAXPES测试，更能获取半导体材料的价带（HUMO）和导带（LUMO）等重要信息，为表界面科学研究提供关键实验依据。
为了让广大科研工作者更全面地了解XPS-HAXPES分析技术，更好地解决相关科学问题，清华大学材料学院与爱发科费恩斯（南京）仪器有限公司联合主办“软-硬X射线光电子能谱专题学术讲座”。本次讲座将系统解析XPS-HAXPES以及UPS/LEIPS技术的基本原理、方法特性、典型应用案例、样品制备规范及数据处理方法，旨在深化科研人员对该表征技术的理论认知与实践能力，助力相关领域研究工作的高效开展。诚邀各学科师生及科研人员莅临交流！
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