魔技纳米闪耀2025深圳光博会，邀您共鉴三维微纳加工技术新突破！

双展联动

 构建“光电子+半导体” 融合生态

9月10-12日，第26届中国国际光电博览会（CIOE）与SEMI-e深圳国际半导体展在深圳国际会展中心同期举办，双展在展示内容、观众群体上深度融合，可一站式洞悉 “光电器件-半导体制造-芯片”全产业链创新。

在此次双展联动的绝佳契机下，精心筹备，携更丰富的产品系列与nanoboostprinter前沿技术强势亮相，全方位展示企业在跨尺度微纳加工领域的卓越成就，成为展会中备受瞩目的焦点。

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三大产品系列

激光器介绍

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先进技术再突破

彰显创新实力

自研设备打破了国外在该领域长期的技术封锁，为国内科研机构与企业提供了自主可控的微纳加工利器，广泛应用于光子学、生物医学、微机电系统（MEMS）等前沿领域，助力众多科研项目取得突破性进展！

此次展会亮相的nanoboostprinter 前沿技术，是在微纳加工领域的又一重要突破。该技术在加工效率、精度控制与应用适配性上实现了多重升级！能够实现50nm的超高加工精度，而三维结构复杂度无需妥协！单点加工效率提升10-200倍，这意味着原本需要3小时打印的结构，现在不到1分钟即可完成；同时配合多焦点扩展模块，高复杂度纳米结构打印的批量生产，将从“按天算”变成“按秒计”！

跨尺度微纳加工解决方案

满足多元需求

始终坚定不移地专注于微纳加工技术的研发创新，矢志不渝地为全球客户提供多维度、宽写场、跨尺度的纳米级集成制造系统，积累了深厚的技术底蕴与丰富的实践经验。

无论您是需要在微小芯片上雕刻复杂电路，以提升芯片的性能与集成度；还是在生物芯片表面构建精细的微流控结构，用于生物医学检测与分析；亦或是为光学元件打造高精度的纳米级表面纹理，优化光学性能，都能凭借丰富的经验与先进的技术，为您量身定制最优化的解决方案，满足您对微纳加工的各种严苛要求。欢迎您前来4号馆4B012展位进行技术交流~

明日展会精彩续航，更多前沿黑科技成果，静候您前来探秘！

科技是一家三维微纳制造领域集研发、生产、销售及服务于一体的高新技术企业、省专精特新企业。研发团队拥有十余年微纳三维制造技术经验，具有完整的自主开发能力，可以为多行业应用场景提供专业的一体化解决方案。

企业推出了三维微纳加工/纳米3D打印设备 、超快激光微纳加工中心、无掩膜直写光刻设备三大系列及多款光刻胶和激光器产品，其中自主研发的商用纳米级三维激光直写光刻系统，可实现50纳米精度的三维结构加工。凭借高精度、高速度、大幅面和长时稳定性等核心技术优势，实现了科研探索到商业化应用的跨越，有力推动了微纳三维制造在生物医疗、光电通信、新材料、微纳器件、航空航天等领域的规模化工业生产。