第一轮会议通知｜2022表面分析技术与应用研讨会年会

随着材料、能源、半导体、微电子、信息产业及环境领域等高新技术的迅猛发展，表面科学目前已经成为国际上最为活跃的学科之一，从科研到产品，对于表面分析技术的需求也日益增多。

为积极推动表面分析应用技术的发展，促进表面分析技术与其它学科的融合，更好地结合表面分析技术解决科研和产品问题，并加强同行之间交流与合作，展示相关的新成就、新进展， PHI CHINA将于2022年11月9日~11日在南京举办“2022表面分析技术与应用研讨会年会”。

本次会议邀请了在表面分析应用领域的专家、教授们以及将在本会隆重成立的“表面分析专家” 委员会的各位顾问老师们在11月10日全天进行学术报告交流。

同时本次会议我们邀请到了ULVAC-PHI,Inc.公司的社长：原 泰博先生、资 深市场经理：宫山先生和亚洲区销售经理：漆原先生为大家分享、介绍PHI最 新一代XPS光电子能谱设备- PHI GENESIS。

PHI CHINA在此诚邀国内外相关高校和科研院所的科研人员、科学领域的专家学者、技术人员共同交流，共商合作，共谋发展。

01 会议地址

江苏南京（具体地址待定）

02 会议时间

2022年11月9日-11日

03 主办单位

PHI(CHINA)LIMITED

ULVAC-PHI，INC.

04 会议主题

表面分析技术在各领域研究中的应用发展

ULVAC-PHI/PHI CHINA XPS新品发布

表面分析家平台成立大会

05 会议日程安排

2022.11.9 ：报到

2022.11.10 ：全天报告

2022.11.11 ：PHI CHINA南京实验室参观交流

06 费用

本次会议不收取会务费。参会人员食宿及交通费自理。

07 参会报名

请扫描下方二维码完成报名

*根据国内疫情防控要求及相关政策要求，参会报道时需提供健康码、行程码绿码。

08 会务组联系方式

张伟 18500084171 

william.zhang@coretechint.com

吴婷 13167361283 

noreen.wu@coretechint.com