PHI CHINA 2022表面分析技术与应用研讨会成功举办

       2022年11月10日，PHI CHINA以“2022表面分析技术与应用研讨会年会暨PHI新品发布与表面分析家成立大会”为主题的研讨会通过线下和线上会议平台成功举办。本次研讨会聚焦于先进表面分析技术的发展与应用，同时在PHI CHINA实验室为最 新XPS产品PHI GENESIS进行揭幕，以及宣布“表面分析家”的成立。本次会议通过线下和线上同步举行，ULVAC-PHI社长原·泰博先生以及海外销售部部长漆原·宣昭先生莅临PHI CHINA实验室并出席了本次会议，与PHI用户、表面分析技术专家和学者共聚云端，成就表面分析技术领域的学术盛宴。

01 XPS最 新产品PHI GENESIS发布

本次研讨会在ULVAC-PHI社长原·泰博先生慷慨激昂的致辞中拉开了帷幕。随后社长原·泰博先生和高德公司执行长 (CEO)陈文徵先生在PHI CHINA实验室共同完成了PHI GENESIS的揭幕仪式。

ULVAC-PHI社长原·泰博先生致辞

02 表面分析技术与应用线上研讨会

表面分析技术与应用研讨会已成功举办十余届，已成为国内表面分析领域中交流技术发展、技术应用、学术思想和拓展学科视野的重要会议。本次研讨会邀请了百余位PHI的用户以及合作伙伴相聚云端，共同探讨表面分析技术的发展与未来。会议伊始，PHI CHINA中国区执行总监叶上远先生详细介绍了PHI XPS的发展历程，用户对XPS技术的期望，以及应运而生的PHI GENESIS设备。随后，PHI用户代表天目湖先进储能技术研究院王原习主任、东莞新科技术研究开发有限公司王牡高级工程师、昆明理工大学杨喜昆教授、中国科学院化学研究所邹业副研究员，PHI合作伙伴电子科技大学李严波教授，北京理工大学张学强教授，中国科学技术大学姚宏斌教授和朱俊发教授、以及PHI CHINA的应用专家鞠焕鑫博士和杨欧工程师等报告人结合XPS、LEIPS、AES和TOF-SIMS等表面分析技术及其在科学研究中的应用带来了精彩报告。

会议的报告人和主题

03 表面分析家公众号成立

值此盛会之际，在表面分析领域众多从业人员的见证下，表面分析家正式成立。表面分析家旨在搭建一个无障碍的交流平台，为大家带来更多表面分析相关的信息的共享和传承，包括有关表面分析的最 新技术、应用领域、科研成果以及市场的最 新趋势、动态和发展等，期待能够将整个表面分析界的知识带到一个更高的水平。

会上，众专家、学者、企业人士以及相关技术人员就表面分析技术的应用和发展进行了经验分享和热烈讨论。最 终，ULVAC-PHI海外销售部部长漆原·宣昭先生宣告本次会议圆满闭幕。

2022表面分析技术与应用研讨会是一场有高度，有广度、有深度，有内涵的大会。意犹未尽，期待明年再相会。

PHI CHINA南京实验室留影（2022）

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