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3月展会预告|慕尼黑上海光博会、SEMION CHINA开展倒计时!

来源:优尼康科技有限公司 更新时间:2025-02-26 17:15:13 阅读量:288
导读:优尼康诚挚邀请您前来观展交流,我们将携带多台设备参展。

01

作为亚洲激光、光学、光电行业盛会,齐聚国内外行业知名企业,从元器件到系统集成方案,提供光电产业完整产品链展示平台。展会将继续秉持以科技创新为核心,勇于突破,不断创新,努力推动光电产业的转型升级,为全球光电产业的持续繁荣做出更大的贡献。


将参展慕尼黑上海光博会,期待与您现场探讨关于设备在半导体领域的应用,助力行业发展。

本次展会为免费参展

需了解详情可扫扫码预登记

会议时间:

2025年3月11日 - 13日

展会地点:

上海·新国际博览中心

展位布局:

展台 N2馆2729

参展设备:

F50 膜厚测量仪

F50可以非常简单地获得最大直径450毫米的样品薄膜厚度分布图。采用r-θ 极坐标移动平台,可以快速定位所需的测试点并且实时获得测试厚度,大约每秒测试两点。

相关应用:半导体制造(光刻胶、氧化物/氮化物/SOI、晶圆背面研磨);LCD 液晶显示器(聚酰亚胺、ITO 透明导电膜);光学镀膜(硬涂层、抗反射层);MEMS 微机电系统(光刻胶、硅系膜层)。

Profilm3D 白光干涉光学轮廓仪

Profilm3D 使用最先进的垂直干涉扫描 (WLI) 与高精度的相位干涉 (PSI) 技术。以强大的性价比实现次纳米级的表面形貌研究。

相关应用:粗糙度测量;三维形貌表征;台阶高度测量

FS-8 多波长椭偏仪

Film Sense FS-8多波长椭偏仪采用寿命长 LED 光源和非移动式部件椭偏探测器,可在操作简单的紧凑型椭偏仪中实现可靠地薄膜测量。

相关应用:二氧化硅和氮化物,高介电和低介电材料,非晶和多晶材料,硅薄膜,光刻胶。高和低指数薄膜,如 SiO2, TiO2, Ta2O5, MgF2 。TCO(如 ITO),非晶硅薄膜,有机薄膜(OLED 技术)等

MNi-450F 桌面式主动型隔振台

MNi-450F 桌面式主动型隔振台全新设计,易使用,优秀的隔振性能。全频段出色的抗振效果同时没有共振。

相关应用:SPM,AFM,台阶仪,光学轮廓仪,激光干涉仪,桌面型SEM,激光共聚焦显微镜,表面粗糙度仪,小型硬度计,电子天平,硬盘制造装置,微操作机器人,等精密装置

02

SEMI致力于促进中国半导体﹑平板显示﹑太阳能光伏、化合物半导体、智能交通、智能制造等产业的发展, 推动全球与国内产业界的交流与合作,呼吁产业人才培育(英才计划),推动研发创新,促进产业持续发展。

展会时间:

2025年3月26日 - 28日

展会地点:

上海·新国际博览中心

展位布局:

展位号 N1-1343



我们深耕薄膜测量行业十多年,不论您在薄膜测量方面有什么问题,我们的技术专家都可以为您提供有价值的建议或解决方案。欢迎来电,我们很高兴与您讨论您的应用问题。



产品展示


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