上海伯东代理美国考夫曼博士设立的考夫曼公司 KRI 射频离子源 RFICP 140 是一款紧凑的有栅网离子源, 离子束可选聚焦, 平行, 散射.

离子束流: >600 mA; 离子动能: 100-1200 V; 中和器: LFN 2000. 

采用射频技术产生离子, 无需电离灯丝, 工艺时间更长, 更适合时间长的工艺要求. 提供高密度离子束, 满足高工艺需求.

离子源采用模块化设计, 方便清洁/ 保养/ 维修/ 安装.

非常适用于离子束溅射沉积, 离子辅助沉积和离子束刻蚀工艺.

伯东 KRI 射频离子源 RFICP 140 技术参数:

伯东KRI 考夫曼离子源 RFICP 140 应用领域：

1.预清洗

2.表面改性

3.辅助镀膜(光学镀膜)IBAD,

4.溅镀和蒸发镀膜 PC

5.离子溅射沉积和多层结构 IBSD

6.离子蚀刻 IBE

KRI 射频离子源相关应用案例:

1. 伯东 KRI 射频离子源 RFICP 应用于离子刻蚀 IBE

2. 伯东 KRI 射频离子源 RFICP 325 辅助 LED-DBR 镀膜

3. 伯东 KRI 离子源成功应用于离子溅射镀膜 (IBSD)

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