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Allresist 电子束光刻胶 AR-N7700

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详细介绍

特点:


• 用于高灵敏度电子束曝光、混合曝光等

• 感光波段:e-beam、deep UV(248 nm)

• 紫外曝光波段:

负胶:248nm~265nm & 290nm~330nm

• 化学放大胶,高灵敏度

• 良好的耐干法刻蚀能力


产品优势
特点:• 用于高灵敏度电子束曝光、混合曝光等• 感光波段:e-beam、deep UV(248 nm)• 紫外曝光波段: 负胶:248nm~265nm & 290nm~330nm• 化学放大胶,高灵敏度• 良好的耐干法刻蚀能力。
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