GERSTEL 真空管内萃取 V-ITEX
韩国CURIOSIS自动活细胞成像仪Celloger Nano
全自动定量毛细管电泳系统
360度全息3D活细胞成像系统
美国KPM SAT 450生化分析仪
荷兰Lumicks 超高分辨率双光镊 m-Trap
技术原理
Lumicks超高分辨率双光镊主要由微液流控制系统、光镊操纵系统、力学检测系统组成。微液流控制系统采用分通道集成设计，避免反应体系交叉污染，确保多步骤生物反应原位进行；光镊系统通过高度聚焦激光束产生的力来操作纳米或微米级的介电质颗粒，实现了对生物分子的单分子水平的操纵。
技术特征
√ 单分子操纵
√ 双光阱
√ 力学稳定性高，漂移小于0.3pN(数分钟）
√ 0.1pN力学分辨率
√ 开放和友好的用户界面
√ 高性价比
应用案例
蛋白折叠
10秒钟之内单个钙调蛋白分子结构的变化追踪。灰色数据表示2.5kHz采样率，红色为200Hz。柱形图显示钙调蛋白分子主要存在两种活性状态，而第三种瞬时性的状态可以忽略。
规格参数
■ 软件
m-Trap便捷直观的双屏显示界面给您的实验操作带来极大便利；您可通过手动点击操纵杆或通过简单的命令来自动控制诸如光阱位置，平台位置，微流体以及数据记录等过程。以用户为中心的软件操作界面以及简易的操作流程使复杂的单分子实验过程在数分钟之内完成。
■ 微流控系统
负压系统可以在层流环境下检测到亚纳米级别的位移
用于远程操控的自动阀
无位移偏差
单分子测量零干扰
多达11个注射器可以接到流动池上来实现复杂的多重蛋白分析
■ 通用配置
高精度位移台：保证对样品表面分析的可重复性和JD定位。
技术支持：由我们的专家团队专门提供技术支持。
软件支持：我们有自己的软件研发团队，可帮助客户解决系统自搭建过程中的任何问题。
■ 光镊
检测范围：50μ m×50μ m(x,y)
独立光阱数目：2（1个固定，另一个可活动）
光阱类型：连续激光
力学检测分辨率： <0.1pN @100Hz
ZD逃逸力：1000pN , 4.5μm 聚苯乙烯微球
应力稳定性：＜0.3pN
光阱距离分辨率：<0.3nm @100Hz
小步移： <20nm
运动微球追踪精确度：<3nm @ 100Hz
报价：面议
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报价：￥200000
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PMMA 光刻胶是学术界和工业界广泛使用的行业标准正性电子束光刻胶，适用于高分辨率特征和剥离工艺。它也可用于纳米压印应用，以及石墨烯薄片转移等其他晶圆厂和研发工艺。P(MMA-MAA) 共聚物光刻胶可与 PMMA 配合使用，用于 T 型栅极等双层光刻胶工艺。它也可单独用作高灵敏度正性光刻胶。
产品介绍 什么是 V-ITEX V-ITEX 是一种先进的微萃取方法，它基于经典的管内萃取 (ITEX) 硬件，但在萃取过程中引入了减压（真空）条件。想象一下，在真空环境下，样品中的挥发性物质更容易“逃逸”到气相中，从而被更高效地捕获和分析！ V-ITEX 的核心优势 超高萃取效率与灵敏度 与传统的顶空固相微萃取 (HS-SPME) 和经典 HS-ITEX 相比，V-ITEX 能够萃取到高达 450 倍的化合物量！ 这意味着可以检测到更多种类、含量更低的挥发性化合物，显著提升分析的灵敏度和全面性。
1、安东帕服务工程师能够利用专利性 T-Check 系统验证精确的温度测量 2、常规测量可以根据您的 SOP 构建，并预先定义合格/不合格标准。可以配置检查间隔，以根据您的测量设备控制协议，执行系统适用性测试。 3、综合分析仪器和系统验证 (AISQ+) 极大减少了使用新制药用折光仪所需的工作量。它可打印或完全数字化电子签名，从而加快资格审查过程中的审查和批准。
蔡司激光共聚焦显微系统 LSM 990 集多种成像技术于一体的多功能共聚焦系统 [ 产品简介 ] 蔡司激光共聚焦显微系统 LSM 990 集多种显微成像技术与一身，是一款专为生命科学研究而设计的多功能先进共聚焦显微成像系统。该系统采用高灵敏度的检测器和多种激光源，可以轻松实现从微米到数十纳米的多色超分辨三维成像。其出色的分辨率，优异的成像深度及超快的成像速度能够满足多种应用场景需要，为使用者提供优异的灵活性和成像质量。同时，作为综合性的多功能成像平台，LSM 990特殊的光路设计及强大的电子控制系统赋予了其出色的扩展能力。可通过搭载多种功能模块，使其具备双光子成像、超高分辨率成像、
【特点】 1、领先的屏幕截取功能：直接将仪器屏幕上的各种波形图保存为BMP文件，并输出到PC机 2、领先的关机自动保存功能：方便下次开机读取测量的数据 3、240*320彩色TET LED显示屏：更适用于黑暗环境下作业 4、较VA-11S采样点数提高一倍左右，为8192个采样点更精确的了解每一单一频率下的幅值。 5、三种显示方式：振动表，时域谱和FFT分析功能。测量数据保存在存储卡上。 7、附带中文软件方便于PC机上分析，打印报表。
特点 开口部大，提高安全性 还标准装备防止机械、电气事故的机构，如在开口部（开口部扩大，方便样品进出）设置防止误操作的区域传感器等。 细致应对作业需要 搭载容易固定小样品的磁板、日常检查不可或缺的标准试验片等装备。除此之外，在软件方面，也针对以丰富帮助功能等为代表的增强日常操作性进行了极其细微的应对。 追求使用便捷性和安全性 图像 为了更容易使用、更安全地作业，对细节进行了精心考虑，如两侧的大型窗口、LED照明、电源开关的保护盖、前面的透明板可安装拆卸等。 还有固定弯曲印刷电路板的治具、测定时防止样品背面沾水的局部浸水装置等选购件，请随时咨询。
适合科研领域的中小型实验净房与纳米加工的学术研究领域 原位成像和灰度光刻模块的热探针光刻解决方案 NanoFrazor® Scholar特别适合纳米加工研究的学术单位，用于在1D/2D 材料， 例如量子点和纳米数组上制作量子器件的纳米结构，其独特的功能使能够应用任何新材料。 例如，灰度光子学设备、纳米流道结构或用于细胞生长的仿生基质等进阶应用； 通过加热探针对材料进行局部改性，例如化学反应和物理相变。
光学系统上的创新与突破-平行化曝光制程技术制版系统 VPG +大尺寸曝光系统适合用于先进封装，半导体，显示器，彩色滤光片，LED和触摸屏等相关掩膜版制作的应用。 VPG +系统支持所有工业等级数据化格式，并提供Mura优化功能，呈现完美的CD均匀性和分辨率。 VPG + 1400是我们大的系统，特别针对显示器领域和FPD的应用，例如TFT数组和彩色滤光片以及ITO。 VPG + 1400具有高精度的设备架构，分辨率低至1.2 nm的差分干涉仪及先进的Mura校正功能。
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