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掩膜版|保护膜表面颗粒物快速检测系统(PDS)

  • 表面颗粒物检测
面议 (具体成交价以合同协议为准)
Fastmicro FM-PR-PDS 欧洲 荷兰 2026-04-29 10:26:25
售全国 入驻:8年 等级:银牌 营业执照已审核
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核心参数

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产品特点:

高通量检测:每小时可检测 400 片晶圆(WPH)
数据输出:根据 ISO 14644-9 标准,在用户界面和 PDF 报告输出 SCP 等级
正反两面检测:单次测量中完成正反两面检测(无需翻转)
检测范围:能够检测 ≥ 0.1µm 聚苯乙烯乳胶(PSL)等效颗粒(经 NIST 认证)

产品详情:

Fastmicro 掩膜版|保护膜表面颗粒物快速检测系统(PDS)


为掩膜版、掩膜版保护膜以及基板(衬底)制造工艺,提供高通量的表面颗粒污染检测服务。

该系统对粒径大于 0.1µm 的颗粒具有高灵敏度,是一种高效且提供全方位服务的选择。它能以手动或自动的操作方式,以及较低的维护成本,取代传统的颗粒检测系统。


产品特点:

  • 高通量检测:每小时可检测 400 片晶圆(WPH)

  • 数据输出:根据 ISO 14644-9 标准,在用户界面和 PDF 报告输出 SCP 等级

  • 正反两面检测:单次测量中完成正反两面检测(无需翻转)

  • 检测范围:能够检测 ≥ 0.1µm 聚苯乙烯乳胶(PSL)等效颗粒(经 NIST 认证)


生产过程中的一致性测量

快速: 能在数秒内完成大面积成像

定量: 适用于生产和研发环境中的质量鉴定与监测

操作简便: 不受操作人员影响,自动化,洁净抓取方式

精准: 高分辨率测量(数量、位置、尺寸)

一致性: 每次测量都保持客观、稳定

高通量: 能在工艺时间窗口内得出结果



FM-PDS掩膜-产品.png

FM-PDS: 直接检测表面颗粒

该系统可为晶圆制造工艺、下一代化合物半导体以及先进封装应 用,提供高通量的表面颗粒污染检测服务。 

该系统对粒径大于 0.1μm 的颗粒具有高灵敏度,是一种高 效且提供全方位服务的选择。

它能以手动或自动的操作方式,以及 较低的维护成本,取代传统的颗粒检测系统。 

对于下一代半导体生产应用, PDS 系统具备独特的属性:双面同 时扫描(选配);

静态视场扫描(在图像采集过程中无需移动产品)。

多功能模块化平台

系统专为直接测量 DUV(深紫外)和 EUV(极紫外)掩膜版保 护膜、掩模版或其他类型基板表面的颗粒污染水平而研发。


‍该系统可根据需要客户需求进行定制和扩展。测量模块也可为系 统集成商和原始设备制造商(OEM)提供贴牌服务



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