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飞纳 清洁度分析 ParticleX TC

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飞纳 清洁度分析 ParticleX TC 核心参数
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详细介绍

Phenom ParticleX TC

飞纳 Phenom ParticleX 全自动清洁度分析系统 以台式扫描电镜和能谱仪为硬件基础,可以全自动对颗粒或杂质进行快速识别、分析和分类统计,为客户的研发以及生产提供快速、准确和可靠的定量数据支持。该过程完全符合 ISO 16232 和 VDA 19 要求。

TM.jpg

​传统的清洁度分析方法(重量法和光镜法)只能提供清洁部件上大颗粒灰尘和碎片的总体重量或形状信息,而不能全面分辨颗粒的污染源。Phenom ParticleX 取代传统颗粒物清洁度检测方法,允许工程师看见微米尺寸的颗粒并确定其化学成分,从而判断出污染源。

借助 Phenom ParticleX 全自动清洁度分析系统,只需一键,即可自动分析 4 片直径 47mm 的滤膜,并且自动生成报告,更有效率地监控过程清洁度。

规格参数


光学放大3 - 16 X
电子光学放大80 - 200,000 X
分辨率优于 10 nm
数字放大Max. 12 X
光学导航相机彩色
加速电压4.8 Kv - 20.5 Kv 连续可调
真空模式

高分辨率模式

降低核电效应模式

高真空模式

探测器背散射电子探测器

二次电子探测器 (选配)

样品尺寸最大 100 mm X 100 mm

可同时装载 36 个 0.5 英寸样品台

样品高度zui高 65 mm,样品高度全自动调节
产品优势
飞纳 Phenom ParticleX 全自动清洁度分析系统 以台式扫描电镜和能谱仪为硬件基础,可以全自动对颗粒或杂质进行快速识别、分析和分类统计,为客户的研发以及生产提供快速、准确和可靠的定量数据支持。
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