德国Osiris湿法刻蚀系统

产品简介

CHEMIXX E 30 (掩模)光掩模或晶圆蚀刻 (E) 系统

该蚀刻和清洁系统旨在为工业用户提供高效且安全的系统。 此外，低生命周期成本 (LCC) 是我们推荐此设备的一个很好的理由。该工具具有易于操作的用户界面，具有所有需要的功能，如配方编程、服务、维护和用户管理。 在该系统的设计和构建中，非常重视安全性和用户友好性。

产品特色

÷ 人工装卸半自动化系统

÷ 面罩尺寸（方形衬底）高达 230 x 230 毫米/9 x 9 英寸

÷ 晶圆尺寸高达 300 毫米（Ø12 英寸）

÷ 一个用于蚀刻和清洗应用的工艺室

÷ 最多两个用于化学和机械加工的电动介质臂

÷ 介质臂最大。 6条介质线/喷嘴

÷ 提供多种喷嘴

÷ 低接触或定制夹头

÷ 加热介质线：20 - 80°C

*取决于介质

÷ 腔室冲洗喷嘴系统

÷ 去离子水的 BSR（背面冲洗）喷嘴

÷ 工艺室外的手动去离子水枪

÷ 最大的集成介质容器。3 个罐（每个 10 升）

可选：用于不同化学品的外部介质容器

例如（H2SO4、H2O2、NH4OH、HF、BOE）

÷ 手动灌装或通过批量灌装系统

÷ 传感器控制的 3 路排水系统可通过配方进行编程

÷ 排放到带有高位传感器的废物罐或设施排放

技术数据

通用

衬底尺寸: 最大可达 230 x 230 mm (9″x 9″) 或 Ø 300mm (Ø12″)

电机转速: 最大 4.000 转数, 以 1 转 步进可编程*

电机加速: 最大 5.000 转/秒*, 以 1 转/秒的步进*

步进时间: 1 至 999.9 秒，以 0.1 秒为步长可编程

系统架构: 由粉末涂层不锈钢制成

系统外壳: 由 PP 白色制成（可选 FM 4910) 和

可调水平脚和运输轮。

加工碗: 由 PP 天然制成 (可选 PVDF)

处理室: 由 PP 白色制成（可选 PVDF)

*取决于卡盘设计、衬底重量和负载

要求

电源: 400(208) VAC / 3 相 / N / PE / 50(60) Hz

真空: -0.8 巴（-80KPa）, 管 OD Ø8 mm

CDA: 8 巴（800KPa）, 管 OD Ø6 mm

氮: 4 ± 0.2 巴（400±20KPa）, 管 OD Ø6 mm

去离子水: 2.5 +1.0 巴（250+100KPa）, 管 3/8” flare

排气过程: 1x OD Ø140 mm, 50 - 180m3/h*

排气容器: 1x OD Ø110 mm, 50 - 180m3/h*

排水: 带有高液位传感器的废物罐或设施排水管*

*化学和工艺相关