德国Osiris全自动湿法清洗刻蚀显影系统

产品简介

CHEMIXX (CL-E OR D) 1201具有集成处理模块和机器人处理的单处理湿法系统适用于蚀刻、清洁或显影工艺等应用。该系统概念具有可编程排气和精心设计的气流，可在晶圆和衬底上提供极好的均匀度和清洁的表面。此应用模块配备有 BSR 喷嘴和多达三个可编程的点胶臂，同时提供了许多不同的喷嘴类型选项。I/O Station 配备 Foup 可用于最大 300 毫米的晶圆或最大 9 x 9 英寸的衬底（掩模），作为其他选项，我们还提供作为开放式卡塞盒的 I/O Station。内部用户界面具有所有需要的功能，例如配方编程、维护和用户管理。所有必要的介质供应，如CDA、N2、真空和去离子水都可以通过插入式连接插入并由软件控制。

产品特色

÷ 应用领域：清洗、蚀刻或显影

÷ 衬底尺寸可达 Ø300 毫米或可达 230 x 230 毫米

÷ 最多三个电动介质臂

÷ 用于去离子水的不同类型的喷嘴和 BSR 喷嘴

÷ 去离子水室冲洗

÷ 电阻率 PH-Sensor 控制

÷ 单臂或双臂机器人衬底处理

÷ 带 FOUP 或 Cassette 的 IO-Station

÷ 真空或低接触卡盘

÷ 用于10或40升不同化学品装罐的外部介质容器。

系统设计

÷ 系统框架由粉末涂层不锈钢制成

÷ 加工区域为可上锁透明门

÷ 由 PP 白色制成的工艺室（可选 ECTFE）

÷ 系统前端的紧急停止按钮

÷ 两个或多个排水分流器（传感器控制和通过配方编程）

÷ 带有四个光区的信号灯，使系统状态可视化

÷ 可调水平脚和运输轮

÷ 满足洁净室等级 10 (ISO 4) 的通用设计

技术数据

通用

衬底尺寸: 最大可达 Ø300 mm (Ø12 inch) 或 230 x 230 mm (9 x 9 inch)

电机转速: 最大 6.000 转数*, 以 1 转 步进可编程

电机加速: 最大 40.000 转/秒*, 以 1 转/秒的步进

步进时间: 1 至 999.9 秒，步长为 0.1 秒

系统架构: 由粉末涂层不锈钢制成，4 个可调节支脚和运输轮以及用于加工区域的透明和可锁定的玻璃门

处理室: 由 PP 白色制成（可选 ECTFE）

加工碗: 由 PP 天然制成

*取决于卡盘设计、衬底重量和负载

要求

电源: 400(208) VAC / 3 相 / N / PE / 50(60) Hz

真空: -0.8 巴 （-80KPa）, 管 OD Ø8 mm

CDA: 8 巴（800KPa）, 管 OD Ø10 mm

氮: 4.5 巴（450KPa）, 管 OD Ø10 mm

去离子水: 2-3 巴（200-300KPa）, OD Ø16.7 mm (3/8”)

排气过程: 1x OD Ø110 mm, 50 - 120m3/h*

排气容器: 1x OD Ø110 mm, 50 - 180m3/h*

排水: 带有高液位传感器的废物罐或设施排水管*

*化学和工艺相关