苏州普乐斯电浆等离子清洗机
Diener PICO 等离子清洗机
Diener PLASMA 大气压等离子清洗机
Diener ZEPTO Plasma 等离子清洗机
Diener FEMTO 微波等离子清洗机
PCE-8等离子清洗机
型号 | RTR100L-W500 | |
控制系统 | 控制方式 | 全自动控制（自动/手动切换） |
PLC（标配）/PC（可选） | ||
操作系统 | Windows 10 | |
触摸屏 | 7寸 | |
整机规格 | 尺寸 | W6900×D1650×H1150mm |
腔体 | 处理宽幅 | <520mm |
材质 | 铝合金（标配）/不锈钢（可选），腔体3段式 | |
冰水机 | 通路 | 用于电源、电极、真空泵浦的冷却 |
供电 | AC380V、3PH、50/60Hz、3KW | |
蚀刻能效 | 速率 | ≥0.5µm/Min |
均匀性 | ≥90% | |
真空计 | 薄膜硅电容耐腐蚀 | 1个，0-10Torr |
流量计 | MFC质量流量控制器 | 4个，量程0-2000ml/min |
真空泵 | 干泵机组（螺杆泵+罗茨泵） | 1套，120m3/h+1800 m3/h；极限真空值≤50mTorr |
发生器 | 中频 | 40KHz，20KW |
温度控制系统 | 过程温度控制 | 30-150℃恒定可控 |
张力控制系统 | 数显张力 | - |
其它 | 工艺气体：14MPa减压至0.3MPa，O2=9.99%;Ar=99.99%;N2=99.99%;CF4=99.999% 气体压力：0.2MPa≤气源≤1MPa；气源压力：0.3-0.8MPa；气源纯度：无油无水干燥气体；工作环境温度：≤30℃；冻水流量：5 SLM；干燥Air/N2流量：17 SLM | |
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美国 Harrick PDC-32G-2 基本型等离子清洗机，该产品能处理塑料、生化材料、PDMS、玻璃或金属半导体、陶瓷、复合材料、高分子聚合物等材料，并对所处理的材料表面带来表面超洁净、杀菌、提高湿润性转变、表面性质改变、提高结合力等处理效果。
美国 Harrick PDC-002 扩展型等离子清洗机，该产品能处理塑料、生化材料、PDMS、玻璃或金属半导体、陶瓷、复合材料、高分子聚合物等材料，并对所处理的材料表面带来表面超洁净、杀菌、提高湿润性转变、表面性质改变、提高结合力等处理效果。
德国 PVA TePla 等离子清洗机PlasmaPen 常压等离子，通过清洁和活化材料表面来改善灌封化合物、粘合剂、油墨、涂料和染料等的浸润性。PlasmaPen™清洁后的表面保证了半导体封装工艺中打线和芯片键合的可靠性。它已经成功地应用于平板显示制造业中提高异方性导电胶膜（ACF）的粘合性。
等离子去胶工艺拥有低污染颗粒，低成本大规模量产，高均匀性与高可复制性等工艺特征。
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沪公网安备 31011502008050号