「外延科技超高真空磁控溅射PVD」价格、参数、图片

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产品特点：

 原子级平整:RMS<0.1nm
 大面积:1英寸到8英寸
 多模式:ON/Off Targets
超高真空:10-9 Torr
 温度:RT-1000度

产品详情：

超高真空磁控溅射

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磁控溅射是物理气相沉积(Physical Vapor Deposition，PVD)的一种。

磁控溅射可实现高速、低温和低损伤的物理沉积，用于制备金属、半导体，绝缘体等多种材料。

因为是在低气压下进行高速溅射，必须有效地提高气体的离化率。磁控溅射通过在靶阴极表面引入磁场，利用磁场对带电粒子的约束来提高等离子体密度以增加溅射速率。

(超高真空磁控溅射)

超高真空磁控溅射

 原子级平整:RMS<0.1nm

 大面积:1英寸到8英寸
 多模式:ON/Off Targets

超高真空:10-9 Torr

 温度:RT-1000度

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(多靶桌面磁控)

桌面磁控溅射系统

三维样品台，倾斜0-45度
2inch 靶(数目定制)
阀门和气路程控
快开式装卸样品
5分钟实现快速换样
触摸屏控制，高度自动化

超高真空磁控溅射系统采用超高真空设计，所有靶枪全金属密封，系统背景真空可以高达10-10Torr。专业的穹形档板设计，可

以避免靶之间的污染，并容许一腔更多的靶的紧凑排列，实现一腔室多种材料的组合以及共溅射沉积。采用特有的大尺寸激光加热，我们还可以在高温下进行薄膜的单晶外延，制备高温YBCO超导薄膜等量子材料.腔体结构灵活升级，还可以安装离轴靶枪，实现多元材料的原子级制备。腔体可以与 LMBE、MBE等互联，用于复杂多层膜的制备。

无所不在的薄膜技术

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