等离子CLONE双模式等离子刻蚀机清洗机
离子刻蚀机清洗机Co系列桌面式等离子刻蚀机清洗机
Diener Tetra100 等离子表面清洗/蚀刻机
等离子清洗机 NPC-3000等离子去胶机(刻蚀机) 那诺-马斯特
中频电源表面清洗离子清洗机
等离子体来历:
等离子体是由克鲁克斯在1879年发现的,1928年美国科学家欧文·朗缪尔和汤克斯(Tonks)S次将Plasma一词引入物理学,用来描述气体放电管里的物质形态。
Plasma是源自希腊文,等离子体(plasma)又叫做电浆,是由部分电子被剥夺后的原子及原子团被电离后产生的正负离子组成的离子化气体状物质,常被视为是除去固、液、气外,物质存在的第四态。等离子体是不同于固体、液体和气体的物质第四态。物质由分子构成,分子由原子构成,原子由带正电的原子核和围绕它的、带负电的电子构成。正负电荷总量相等,因此它是近似电中性的,所以就叫等离子体。
设备简介:CPT真空式等离子处理设备可选择搭配中频或射频电源,全自动控制运行系统,工艺过程参数可监测控制。广泛应用于各大行业加工制造过程中基材表面的预处理,提升基材表面的粘接力、增加表面活性和表面微量有机物的去除等,以满足后续工艺的功能要求和提升产品制造良率及质量。
应用领域:适用半导体、汽车制造、新能源、医疗器械、3C产品、电子线路板、印染纺织、印刷打印等广泛领域。
报价:¥180000
已咨询197次20-200升真空等离子清洗机
报价:¥60000
已咨询247次小型真空等离子清洗机
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已咨询324次真空等离子处理仪
报价:¥10000
已咨询988次真空等离子清洗机
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已咨询299次真空等离子处理仪
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已咨询295次真空等离子处理仪
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美国 Harrick PDC-32G-2 基本型等离子清洗机,该产品能处理塑料、生化材料、PDMS、玻璃或金属半导体、陶瓷、复合材料、高分子聚合物等材料,并对所处理的材料表面带来表面超洁净、杀菌、提高湿润性转变、表面性质改变、提高结合力等处理效果。
美国 Harrick PDC-002 扩展型等离子清洗机,该产品能处理塑料、生化材料、PDMS、玻璃或金属半导体、陶瓷、复合材料、高分子聚合物等材料,并对所处理的材料表面带来表面超洁净、杀菌、提高湿润性转变、表面性质改变、提高结合力等处理效果。
德国 PVA TePla 等离子清洗机PlasmaPen 常压等离子,通过清洁和活化材料表面来改善灌封化合物、粘合剂、油墨、涂料和染料等的浸润性。PlasmaPen™清洁后的表面保证了半导体封装工艺中打线和芯片键合的可靠性。它已经成功地应用于平板显示制造业中提高异方性导电胶膜(ACF)的粘合性。
等离子去胶工艺拥有低污染颗粒,低成本大规模量产,高均匀性与高可复制性等工艺特征。