「赛默飞世尔 Centrios 电路编辑系统」价格、参数、图片

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产品特点：

用于快速原型设计和半导体电路调试和维修的电路编辑技术。

产品详情：

产品介绍：

电路编辑和快速原型设计

加快产品开发和缩短上市时间至关重要，因为错失技术窗口或技术落后的代价可能极其昂贵。随着每个新技术节点的设计和集成复杂性的增加，电路编辑工具对于管理成本、避免计划延迟和优化产品性能和功能具有战略重要性。

利用合适的工具、工作流程和技术，电路编辑可以帮助公司减少光刻板旋转、快速进行原型设计并在计划中支持客户设计。

Thermo Scientific Centrios 和 Centrios HX 电路编辑系统专为复杂的半导体电路编辑而设计，让当今和未来的半导体器件具有行业领先的精度、控制和性能。

Centrios HX 电路编辑系统

Centrios HX 电路编辑系统专为极先进的前向和反向编辑功能而设计，具有极佳的编辑控制、精度和稳定性。

Centrios HX 系统采用全新的 Thermo Scientific Celta 聚焦离子束 (FIB) 柱，在低束电流和低着陆能量下实现高分辨率，以便您准确编辑并极大限度地减少电路损坏。Centrios HX 系统采用创新的双喷嘴气体输送系统，结合极广泛的化学品产品组合以及较新的 FIB 技术，可实现行业领先的高精度蚀刻和快速、高效的编辑。

Centrios 电路编辑系统

Centrios 电路编辑系统采用了经现场验证的 Thermo Scientific Tomahawk WDR 离子柱，其性能强大且拥有成本高。Centrios 系统可为当今成熟的工艺节点实现精准的前向和反向编辑、快速原型设计以及硅片调试和修复。

主要特点

成像和减薄分辨率

Centrios 系统 - 在低束电流下达到高分辨率，以便采用经现场验证的 Thermo Scientific Tomahawk WDR FIB 柱和较新的束轮廓改进进行高效、安全编辑。

Centrios HX 系统 - 在较低束电流下达到高分辨率，以便采用新型 Thermo Scientific Celta FIB 柱和较新的束轮廓改进进行高效、安全编辑。

增强的减薄精度和控制

使用同时双喷嘴气体输送系统和专有气体化学产品组合，实现高深宽比过孔的平面性/均匀性、去层/刻蚀停止和高锐度创建。

专用电路编辑平台

Centrios 和 Centrios HX 电路编辑系统专为电路编辑设计，可集成关键组件（如气体化学法输送），从而实现优化的手动和自动化应用。

运行成本低

用于导航的 Thermo Scientific NEXS CAD 软件和 Thermo Scientific iFAST 软件可定制自动化，提高效率和易用性。

性能数据

	Centrios 系统	Centrios HX 系统
离子柱	Thermo Scientific Tomahawk WDR 离子柱，镓液态金属，1000 小时使用寿命	Thermo Scientific Celta FIB 柱
图像分辨率	30 kV 下 3.5 nm	30 kV 下 2.5nm
射束电流	1.2 pA – 65 nA	最大电流为 50 nA
载物台	5 轴电动全对中 X、Y 运动 100 mm 倾斜 -10° 至 60° 旋转 360°
终点检测	同时 SE/标本电流