Logitech Tribo台式化学机械研磨抛光设备

CMP Tribo 台式化学机械研磨抛光设备简介：
Logitech的Tribo CMP是一个高质量台式CMP设备，能理想的用于主要目的是进行中试生产测试的R&D环境（这种中试测试过去常常需要用到昂贵的生产型设备）。Tribo属于小型设备,占地面积小但功能强大,可用性强,并提供更大的生产量。这使得Tribo CMP系统能wan美的用于制造和开发生产环境下的CMP工艺。

典型应用

CMP被广泛应用于后端IC制造，它做为一种可实现的技术也容易适用于试生产测试、MEMS制造，特别是多晶硅表面显微机械加工、Opto-MEMS 和 Bio-MEMS 封装、装配甚至制造。

Logitech的Tribo CMP是一个高质量立式CMP设备，应用在进行中试生产测试的R&D环境最为理想，过去这种中试测试通常非常耗时而且昂贵。Tribo新的特性及功能，包括先进的传感器阵列、更高的使用性和容量，可以对更现实的生产环境进行复制，使得Tribo CMP系统能wan美的适用于晶圆制造厂和其它大规模生产的公司。

CMP Tribo 台式化学机械研磨抛光设备特点：

• 超轻组件像化学防腐抛光盘和抛光头可以确保系统完全由一人来操作。另外，它所占空间较小可方便安装在任何标准实验室内。Tribo的设计使得操作系统更灵活，具备以下特点:

• 双容量/生产能力（2 x 4"晶圆）

• 完全由操作者控制修整器摆动速度和幅度

• 多种传感器备选，可在购买时选择或做为日后升级用

• 一起使用修整器和抛光头来增加工艺性能