CMP Orbis 柜式化学机械研磨抛光设备简介：
Orbis化学机械研磨抛光设备是一款精密的柜式机，适用于科学研究水平的研磨和抛光设备，主要用于需要**分析能力和处理性能的试生产测试和研发测试。
CMP Orbis 柜式化学机械研磨抛光设备特点：
l 多用途处理能力
l 提供低成本高产出的解决方案
l 先进的设计配置
l 操作使用灵活
l 一致性强
l 易用性高
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营业执照未审核
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