产品应用：
PECVD系统是借助射频使含有薄膜组成原子的气体电离，在局部形成等离子体，而等离子体化学活性很强，很容易发生反应，在基片上沉积出所期望的薄膜。
产品组成：
PECVD系统配置：
1.1200度开启式双温区真空管式炉
2.滑动系统分为手动、电动滑动，并配置管内测温系统。
3.预加热开启式管式电炉
4.等离子射频电源
5.多路质量流量控制系统
6.真空系统（可选配中真空或高真空）
产品特点：
生长温度低；沉积速率快；成膜质量好，适用范围广，设备简单。
报价：面议
已咨询1663次PECVD系统
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已咨询1731次PECVD系统
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已咨询1755次CVD系统
报价：面议
已咨询1921次CVD系统
该系列电炉系周期作业，供企业实验室、大专院校、科研院所等单位进行化学分析、物理测定、金属热处理时使用。
该系列电炉系周期作业，供高校、科研院所、企业研发中心、质检单位、加工行业等单位进行高温烧结、金属退火、氧化实验等使用。主要用于陶瓷材料、复合材料、金属材料、纳米材料、功能材料、热电材料、晶体材料等的烧结和氧化实验。
电流限幅功能 此功能延长了硅钼棒加热元件使用寿命，对用户供电设备免受大电流冲击提供安全保护，保护用户在误操作时电炉使用安全。 电流缓启动功能 对用户供电设备免受大电流冲击提供安全保护，即使中途取放物料，也可使测温系统随时响应温度变化。
这套高真空管式烧结炉（分子泵）是由管式电炉ZHK-G15123K-610和 高真空分子泵控制系统FJ600-Z组合而成。 （分子泵控制系统应用在我公司生产的真空/气氛管式电炉及真空/气氛箱式电炉等设备上。）
井式坩埚炉，供企业实验室，大专院校，科研院所等单位选用应用在半导体，纳米技术，碳纤维等领域 薄膜沉积炉、气相沉积炉、纳米材料炉。
该系列电炉系周期作业，供高校、科研院所、企业研发中心、质检单位、加工行业等单位进行高温烧结、金属退火、氧化实验等使用。主要用于陶瓷材料、复合材料、金属材料、纳米材料、功能材料、热电材料、晶体材料等的烧结和氧化实验。
营业执照已审核
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