离子体增强化学气相沉积 (PECVD) 系统
产品概述
PD-220NL 是一种负载锁定等离子体增强化学气相沉积 (PECVD) 系统，能够沉积硅基薄膜（氧化硅、氮化硅、氧氮化硅和非晶硅）。该系统以非常紧凑的占地面积提供了PECVD的所有标准功能。可在直径220毫米的区域内沉积具有优异厚度均匀性和应力控制的薄膜，并具有优异的稳定性和可重复性。用户友好的触摸屏界面，用于参数控制和配方存储。该系统是研发用薄膜沉积以及试生产的理想选择。
2. 设备用途/原理
SiH4-SiNx。SiH4-SiO2。液体驱体(SN-2)SiNx。TEOS-SiO2。
3. 设备特点
大加工范围：ø220 mm (ø3" x 5, ø4" x 3, ø8" x 1)。优异的均匀性和应力控制。卓越的工艺稳定性和可重复性。坚固的系统，低的运行/维护成本。用户友好的触摸屏界面，用于参数控制和配方存储。PD-220NL设计时尚、紧凑，只需小的洁净室空间。双频(13.56 MHz + 400 kHz)PECVD，用于卓越的过程控制。
报价：￥2500000
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营业执照已审核
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