日本Samco紫外臭氧清洗机 UV-1
日本Samco紫外臭氧清洗机 UV-300H
日本Samco 双盒式装载紫外线臭氧清洗设备 UV-300HC
紫外线杀菌消毒台灯QD-UV-01
美国 Harrick PDC-002 扩展型等离子清洗机 美国 Harrick PDC-002 扩展
盒式装载紫外线臭氧清洗设备 UV-300HC双盒式生产系统
概要
UV-300HC是一款高性能的盒式装载UV臭氧清洗机，用于生产。这个行业领先的系统有2个装载盒，可以达到200-300nm/min的高灰化率。该系统利用紫外线照射、高浓度臭氧和可控阶段加热的独特组合，温和而有效地去除硅、玻璃、化合物半导体（GaN、SiC、GaAs和InP）、蓝宝石、陶瓷等各种基材上的有机物。
主要特点和优点
最 大加工尺寸为ø240 mm (ø3" x 5, ø4" x 3, ø8" x 1)
200 - 300 nm/min的高灰化率。
加热阶段加快了清洗速度，实现了宽广的工艺温度范围。
通过调整平台和石英扩散板之间的间隙，可以提高基板的均匀性。
紧凑，使用最小的洁净室空间
简单，在大气压下操作--不需要真空系统。
柔软、完全干燥的工艺不会对基材造成电损伤。
内置臭氧催化剂装置，可将废气中的臭氧浓度降低到安全水平。
应用
塑料包装和引线框架的表面清洁
复合半导体(GaN、SiC、GaAs和InP)的表面清洗
表面改性（润湿性和附着力的改善
表面氧化(薄氧化层沉积)
光阻剂的灰化、剥离和除尘
清除有机污染物
紫外线固化
报价：面议
已咨询124次紫外线UV光清洗/等离子清洗
报价：面议
已咨询154次紫外线UV清洗光源设备
报价：面议
已咨询162次紫外线UV清洗光源设备
报价：面议
已咨询75次UV紫外线/氙灯老化试验箱
报价：面议
已咨询136次清洗
报价：￥28400
已咨询75次光照紫外线老化试验箱
报价：面议
已咨询607次透射电子显微镜
报价：面议
已咨询83次光照紫外线老化试验箱
IXION 193 SLM 是一款单频全固态激光系统，适用于光学计量、193 nm 步进光学元件校准或高功率 ArF 准分子激光器的带宽控制等应用。
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ASML 光刻机 Twinscan NXT:1980Di
Syskey 紧凑式溅射系统 Compact Sputter，灵活的基板尺寸，最大可达6英寸，基板架加热温度最高可达500℃，出色的薄膜均匀性，误差小于±3%， 最多可配备5个6英寸磁控溅射源（可选配3或4个），支持射频、直流或脉冲直流电源，最多可支持3条气体管路，支持顺序沉积和共沉积。
Syskey 紧凑式热蒸发系统 Compact Thermal ，灵活的基板尺寸，最大可达6英寸， 基板架加热温度最高可达500℃，出色的薄膜均匀性，误差小于±3%，可选配电子束或热舟蒸发源（最多3个），速率控制沉积，可沉积多层薄膜，选用特定目标材料
高真空溅射系统 HV Sputter，灵活的基板尺寸，最大可达12英寸或200×200毫米， 基板架加热温度最高可达800℃，出色的薄膜均匀性，误差小于±3%
超高真空磁控溅射镀膜机 UHV Sputter,• 基板支架加热至 800 °C • 优异的薄膜均匀性小于 ±3% • 磁控溅射源（数量最多 8 个），可选强磁版本
Syskey 高真空热蒸发镀膜机HV Thermal 高真空热蒸发系统可提供的真空环境 用于常见薄膜沉积，包括金属、有机物、钙钛矿和化合物。全自动系统可满足各种应用要求，包括OLED、OPV、OPD等。
SAMCO
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