伯东公司德国普发Pfeiffer分子泵
Pfeiffer Hipace30普发涡轮分子泵
德国普发Pfeiffer 多功能 氦质谱检漏仪ASM 340
德国普发分子泵 Hipace10-800
德国普发分子泵 SplitFlow
因产品配置不同，价格货期需要电议，图片仅供参考，一切以实际成交合同为准。
Pfeiffer 普发分子泵 HiPace 10
上海伯东德国普发 Pfeiffer 涡轮分子泵 HiPace 10 -- 世界上-小的分子泵, 抽速可达到 10 l/s. 涡轮分子泵 HiPace 10 集成驱动电路, 适用于工业环境, 通过保护等级 IP54, 半导体 S2, UL / CSA 认证. 通过控制器 TC 110 监控运算数据保证分子泵的安全性. 涡轮分子泵 HiPace 10 占地面积小, 方便移动操作, 自然风冷, 不需要额外的冷却操作.
涡轮分子泵 HiPace 10 技术参数
型号 | HiPace® 10,TC 110 | HiPace® 10, TC 110, twisted connection, DN 25 | HiPace® 10,TC 110 电源 OPS 40, DN 25 |
分子泵图片 | | | |
复合轴承 | 陶瓷球轴承 | ||
Ar 压缩比 | 2.5 X108 | ||
H2 压缩比 | 3 X102 | ||
He 压缩比 | 3 X103 | ||
N2 压缩比 | 3 X106 | ||
冷却 | 对流 | ||
电子驱动 | TC 110 | TC 110, twisted connection | TC 110,电源 OPS 40 |
进气法兰 | DN 25 | ||
排气法兰 | DN 16 ISO-KF, G 1/8" | ||
预抽真空, N2 | 25 hPa | ||
全转速时气体流量, Ar | 0.37 hPa l/s | ||
全转速时气体流量, H2 | 2.78 hPa l/s | ||
全转速时气体流量, He | 0.48 hPa l/s | ||
全转速时气体流量, N2 | 0.37 hPa l/s | ||
通讯接口 | RS-485, Remote | ||
安装方式 | 任意位置安装 | ||
操作电压 | 24 (± 5 %) V DC | ||
可吸入颗粒物 | 是 | ||
允许磁场 | 3 mT | ||
保护类型 | IP 54 | IP 54 | IP 30 |
抽速 Ar | 11.5 l/s | ||
抽速 H2 | 3.7 l/s | ||
抽速 He | 6 l/s | ||
抽速 N2 | 10 l/s | ||
转速 ± 2 % | 90,000 rpm | ||
启动时间 | 0.9 min | ||
极限真空 | < 5X10-5 hPa | ||
重量 | 1.8 kg | 1.8 kg | 2 kg |
分子泵资料下载 | 中文 PDF | 中文 PDF | 中文 PDF |
涡轮分子泵应用 HiPace 10: 针对小腔体设计研发, 特别适合实验室研发和分析行业
分析仪器: 电子显微镜, 检漏, 小型质谱, 表面分析, 残余气体分析
工业: 医学技术, 工业检漏, 隔离真空, 灯管制造
研发: 纳米技术, 生物技术
上海伯东客户某大学采购分子泵 HiPace 10 用于小型质谱仪抽真空;
上海某著名分析仪器厂商采购 HiPace 10 用于便携式分析仪器
涡轮分子泵 HiPace 10 对不同气体的抽速
涡轮分子泵 HiPace 10 尺寸图
上海伯东 Pfeiffer 涡轮分子泵抽速范围 10 至 2700 L/S, 转速-高 90,000 rpm, 极限真空-大 1E-11 mbar, 对小分子气体具有更高的压缩比, 实践证明 Pfeiffer 涡轮分子泵运行时间可以达到 100,000 小时! 普发分子泵提供复合轴承分子泵和五轴全磁浮分子泵二大系列满足不同应用, 推荐搭配 Pfeiffer 旋片泵和干泵共同使用. 推荐分子泵典型应用 >>
若您需要进一步的了解分子泵详细信息, 请联络上海伯东邓女士，分机134
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润滑油
伯东公司日本原装设计制造离子蚀刻机 IBE. 提供微米级刻蚀, 均匀性: ≤±5%, 满足所有材料的刻蚀, 即使对磁性材料, 黄金 Au, 铂 Pt, 合金等金属及复合半导体材料, 这些难刻蚀的材料也能提供蚀刻. 可用于反应离子刻蚀 RIE 不能很好刻蚀的材料
伯东公司日本原装进口小型离子蚀刻机, 适用于科研院所, 实验室研究, 干式制程的微细加工装置, 特别适用于磁性材料, 金, 铂及各种合金的铣削加工.
伯东公司日本原装进口小型离子蚀刻机, 适用于科研院所, 实验室研究, 干式制程的微细加工装置, 特别适用于磁性材料, 金, 铂及各种合金的铣削加工.
上海伯东日本原装进口适合小规模量产使用和实验室研究的离子蚀刻机, 一般通氩气 Ar, 内部使用美国 KRI 考夫曼离子源 KDC 40 产生轰击离子; 终点检出器采用 Pfeiffer 残余质谱监测当前气体成分, 判断刻蚀情况.
Aston™ 特性 实时过程控制的通用工具, 耐腐蚀性气体, 抗冷凝 半导体制造的分子分析原位平台, 提供实时, 可操作的数据 采用等离子体电离源, 无灯丝, 更耐用 可与大批量生产工具完全集成 Aston™ 作为一个强大的平台, 可以取代多种传统工具, 提供前所未有的控制水平, 包括光刻, 电介质和导电蚀刻及沉积, 腔室清洁, 腔室匹配和消解.
氦质谱检漏仪 ASM 340 优点 1. 前级泵配备旋片泵（油泵）Adixen Pascal 1015 I 抽速高达15 m3/h 2. 分流式分子泵 Pfeiffer Splitflow 50 对氦气抽速 2.5 l/s 3. 氦质谱检漏仪 ASM 340 对氦气的Z小检测漏率： 真空模式: 5E-13 Pa m3/s 吸枪模式: 5E-10 Pa m3/s 目前业界公认Z小漏律 4. 移动式操作面板（有线, 无线） 5. 集成 SD卡, 方便资料处理 6. 抗破大气, 抗震动, 降低由操作失误带来的风险性 7. 丰富的可选配件, 如吸枪, 遥控器, 小推车, 旁路装置, 标准漏孔等 8. 检测时间短
氦质谱检漏仪 ASM 390, ASM 392 优势: 1. 强大的抽空能力 2. 极短的测试时间, 3. 大尺寸彩色触摸屏, 无需任何工具即可完全旋转和拆卸 4. 符合人体工学设计, 移动性强 5. 通过 CE 认证, ETL 认证, UL61010 合规, 完全符合 Semi S2 标准 6. 可用于半导体相关行业和平板显示器行业以及其他要求极高的应用
营业执照已审核
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