关于磁控溅射靶材的问题

一、磁控溅射的工作原理：磁控溅射是一种常用的物理气相沉积（PVD）的方法，具有沉积温度低、沉积速度快、所沉积

磁控溅射靶材烧了裂一个口，还能用吗？害怕辉光放电会打到下面基座上了，会不会呢？请高手指导一二，感激不尽。

日本真空（ULVAC日本爱发科)ACS-40000-C4磁控溅射机器靶材的背板不锈钢成分？扫描电镜能谱分析

现在的金属磁控溅射太阳膜，里面的金属层怎么看出来是几层的？为什都是层数都是单数，没有双数？还是就是那些店家

请教专业人士 磁控溅射镀膜工艺，我想要调的工艺颜色该如何选用靶材与气体 我对LOW-E低辐射玻璃镀膜比较熟

我想请教一有点弱的问题 磁控溅射的基体可以是绝缘体吗?尤其是非平衡磁控溅射 还有靶材可以使粉末状的吗

请问哪个学校有能做氮化铝的磁控溅射设备啊？我在北京科技大学，学校里有这个设备但做不了氮化铝膜，所以只能去外

计划采购一台磁控溅射设备，考虑是用国产的呢还是进口的，进口设备要比国产贵很多，国产机呢便宜就是用不到两年就

请问国内哪里有水平磁控溅射玻璃镀膜机卖呢? 如果买国内的设备就买洛阳玻璃集团的，国外就德国的.我们公司这

不是蒸发镀膜的，我需求的是磁控溅射和多弧离子镀膜的技术文章. 我想了解其详细的工作原理，如果说得好肯定给增