KRI 考夫曼离子源KDC 10用于 IBF 离子束抛光工艺

上海伯东是美国考夫曼博士创立的考夫曼公司 KRI 考夫曼离子源中国总代理.
 

某光学镜片制造商为了使光学镜片的抛光刻蚀速率更快更准确, 抛光后的基材上获得更平坦, 获得均匀性更高的薄膜表面, 而采用伯东 KRI 考夫曼离子源 KDC 10 用于 IBF 离子束抛光工艺.

KRI 离子源 KDC 10 客户实际安装图如下：

客户基材: 100 mm 光学镜片

离子源条件: Vb: 800 V ( 离子束电压 ), Ib: 84 mA ( 离子束电流 ) , Va: -160 V ( 离子束加速电压 ), Ar gas ( 氩气 ).

伯东美国 KRI 考夫曼离子源 KDC 技术参数：

Discharge: DC 热离子

离子束流: >10 mA

离子动能:100-1200 V

栅极直径:1 cm Φ

离子束:聚焦, 平行, 散射

流量:1-5 sccm

通气:Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他

典型压力:< 0.5m Torr

长度:11.5 cm

直径:4 cm

中和器:灯丝

KRI 离子源 KDC 10 客户使用结果:

伯东是德国 Pfeiffer 真空泵, 检漏仪, 质谱仪, 真空计, 美国 KRI 考夫曼离子源, 美国HVA 真空阀门, 美国 inTEST 高低温冲击测试机, 美国 Ambrell 感应加热设备和日本 NS 离子蚀刻机等进口知名品牌的指定代理商.

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