推拉门
石英舟支撑杆
温控板
1%精度的真空规
压力控制器
指示灯柱
条形码阅读器
工艺气体切换器
光谱终点检测器
法拉第桶(次级等离子体)
陶瓷腔室,耐化学腐蚀密封圈
打印机
油泵或干泵
台式设计,占地面积小
石英腔室最大可容纳8寸的晶圆,最多同时装载25片6寸晶圆
使用Windows操作系统的工业计算机控制
符合Semi E95-1101要求的图形用户界面(GUI)
软件提供了不同的用户访问权限:操作员、工艺编写、维护
通过以太网进行远程工艺监测
机载诊断功能和报警记录
工艺编辑软件提供了快速灵活的步骤控制功能
液晶触摸屏(LCD)操作面板
基于在线网络的模拟、培训和支持程序
安装简单快捷
去除光刻胶
晶圆打胶
湿法刻蚀前的晶圆清洁
去除SU-8
刻蚀钝化层
失效分析中的器件开封
清洁和表面活化
化学微量分析中的低温材料灰化
过滤器和滤膜的清洁
自动化: | 手动 |
IoN Wave 10E等离子去胶机是我们在微波等离子处理工艺中的新产品。该批次式晶圆灰化设备成本低廉、尺寸适中,特别适用于工厂、科研院所等领域。
IoN Wave 10E使用性能出色的组件和软件,可对工艺参数进行精确控制。它的工艺监测和数据采集软件可实现严格的质量控制。该技术已经成功的应用于功率晶体管、模拟器件、传感器、光学器件、光电、MEMS/MOEMS、生物器件、LED等领域。
IoN Wave 10E占地面积小,安装和维护简单。依靠微波等离子技术,该设备在提供光刻胶高灰化速度的同时,最大程度的降低了产品暴露在静电放电(ESD)中。
规格参数
工作腔室
材质 石英
尺寸 248mm直径 x 397 mm长
腔门处直径 241mm
容积 19.2 升
工艺气体控制 最多至6路气体,MFC控制
基础压力 0.07 mbar (50 mTorr)
工艺压力 0.5 – 1.5 mbar (375 – 1125 mTorr)
抽真空时间 大约1分钟
微波发生器
频率 2.45 GHz
输出功率 最大1200W
供给需求
电源 220V,50 Hz,单相
工艺气体 输入压力1-2 Bar
压缩空气 4-6 Bar,流速最高 56 升/分钟 (间歇式)
吹扫气体 1.3-2.7 Bar,流速最高 28 升/分钟 (间歇式)
尺寸 宽/高/深 775 x 749 x 781 mm
重量 135 千克
可选配置
功能性:
典型应用
- 产品分类
- 品牌分类
- 镀膜沉积机
- 离子刻蚀
- 匀胶机/热版机
- 显影仪/喷涂机
- 清洗机
- 激光设备
- 光刻胶
- 电化学工作站
- 准分子激光器
- 光谱仪器
- 显微镜/扫描电镜
- X射线衍射仪
- 分光光度计
- 生命科学仪器
- 光刻机
- 气相/液相/离子色谱仪
- 太阳能检测仪器
- 电子束系统
- 纳米压痕仪/台阶仪
- 激光器
- 激光粒度仪
- 离心机
- 检测设备
- 光刻机
- (德国)德国新帕泰克
- (美国)美国Ocean Insight
- (俄罗斯)俄罗斯Optosystem
- (美国)美国Gaertner
- (美国)美国MMR
- (美国)美国KLA
- (韩国)韩国Park Systems
- (英国)牛津仪器
- (法国)法国HORIBA JY
- (美国)美国Neocera
- (奥地利)奥地利EVG
- (日本)日本SEN
- (德国)德国ParcanNano
- (日本)日本NEPA GENE
- (美国)美国RTI
- (日本)日本分光
- (美国)美国Thermolyne
- (日本)日本RIBM
- (德国)德国QIAGEN
- (美国)美国SONIX
- (美国)美国ASD
- (日本)尼康
- (美国)美国SCIEX
- (深圳)深圳逗点
- (美国)美国D&S
- (美国)美国瑞森
- (英国)英国VISION
- (美国)美国海马
- (美国)美国BTX
- (其它)捷克Delong Instruments
- (瑞士)瑞士梅特勒托利多
- (美国)美国伯乐
- (美国)美国热电
- (美国)美国VWR
- (美国)美国Newport
- (法国)法国Cameca
- (法国)法国Stilla
- (德国)德国Alpha Plasma
- (美国)美国HST
- (美国)珀金埃尔默
- (英国)英国毕克气体
- (捷克)捷克泰思肯
- (德国)徕卡显微系统
- (美国)美国Savillex
- (美国)美国Royce
- (瑞典)瑞典百欧林
- (美国)奥豪斯
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- (意大利)意大利捷尔纳
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- (德国)德国布鲁克
- (美国)美国SVT Associates
- (美国)美国unchained labs
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- (朝阳区)中科院
- (德国)德国Cellasys
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- (美国)美国恩科优
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- (瑞士)瑞士安东帕(CSM)
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- (美国)美国Nano-Master
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- (美国)美国Filmetrics
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- (美国)美国Trion
- (德国)德国纳糯
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- (美国)美国Harrick
- (美国)美国Mactronix
- (美国)赛默飞世尔
- (美国)美国OAI
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- (美国)美国劳瑞尔
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