Cleaning清洗去胶系统

当前位置：首页>产品中心 >Cleaning清洗去胶系统

价格：面议

Nano-Master兆声单晶圆及掩模版清洗机提供高可重复性、高均匀性及的兆声清洗、兆声辅助下光刻胶剥离，以及湿法刻蚀。该系统配套机械手，也可以升级为多系统的集成架构。它可以在一个工艺步骤中包含了的无...

价格：面议

SWC-4000兆声晶圆（掩模版）清洗机：Nano-Master兆声单晶圆及掩模版清洗机提供高可重复性、高均匀性及的兆声清洗、兆声辅助下光刻胶剥离，以及湿法刻蚀。它可以在一个工艺步骤中包含了的无损兆声...

Cleaning清洗去胶系统解决方案

兆声晶圆清洗技术应用
兆声晶圆（掩模版）清洗机：Nano-Master兆声单晶圆及掩模版清洗机提供高可重复性、高均匀性及兆声清洗。它可以在一个工艺步骤中包含了的无损兆声清洗、化学试剂清洗、刷子清洗以及干燥功能。兆声晶圆（掩...

Cleaning清洗去胶系统产品文章

兆声清洗技术原理、优势及应用
1 兆声清洗技术背景Schwartzman等人，1993在SC1、SC2清洗时使用了兆频超声技术，获得前所未有的清洗效果，使得该方法在清洗工艺中被广泛采用，也引发了对超声波增强清洗效果的规律与机理的研...
单片晶圆清洗机的详细资料概述
单片晶圆清洗机是一款带有小占地面积的理想设备，并且很容易安装在空间有限的超净间中。该系列设备都具有出众的清洗能力，并可用于非常广泛的基片。单片晶圆清洗机提供了可控的化学试剂滴胶能力，这使得颗粒从基片表...
晶圆清洗机主要结构特点及工艺流程
一．产品结构晶圆清洗机主要结构特点：1、采用三套独立的电脑控制机械臂自动化作业2、采用第三代技术，全面完善的防酸防腐措施，保护到机器每一个角落3、全自动补液技术4、*的硅片干燥前处理技术，...