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- 品牌: 美国那诺-马斯特
- 型号:NSC-3500(A)
- 产地:美国
立式自动系统,带有水冷或者加热(可加热到700度)功能,可达6“旋转平台,支持到4个偏轴平面磁控管。系统配套涡轮分子泵,极限真空可达10-7 Torr,15分钟内可以达到10-6 Torr的真空。通过...
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- 品牌: 美国那诺-马斯特
- 型号:NSC-4000(A)
- 产地:美国
立式自动系统,带有水冷或者加热(Z高可加热到700度)功能,Z大到6“旋转平台,Z大可支持到4个偏轴平面磁控管。系统配套涡轮分子泵,极限真空可达10-7 Torr,15分钟内可以达到10-6 Torr...
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- 品牌: 美国那诺-马斯特
- 型号:NPE-4000(ICPM)
- 产地:美国
NM的PECVD能够沉积高质量SiO2, Si3N4, 或DLC膜到Z大可达12" 的基片.淋浴头电极或中空阴极射频等离子源,样品台通过RF或脉冲DC产生偏压。可支持加热和冷却.使用250l...
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反应离子刻蚀 RIE刻蚀机 那诺-马斯特价格:面议
- 品牌: 美国那诺-马斯特
- 型号:RIE刻蚀机
- 产地:美国
RIE刻蚀机概述:RIE系统,配套有淋浴头气体分布装置以及水冷RF样品.具有不锈钢柜子以及13"的上盖式圆柱形铝腔,便于晶圆片装载.腔体有两个端口:一个带有2"的视窗,另一个空置用...
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- 品牌: 美国那诺-马斯特
- 型号:NDR-4000(A)
- 产地:美国
全自动上下载片,带低温晶圆片冷却和偏压样品台的深硅刻蚀系统,带8“ ICP源。系统配套500L/S抽速的涡轮分子泵,可以使得工艺压力达到几mTorr的水平。在低温刻蚀的技术下,系统可以达到硅片的高深宽...
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- 品牌: 美国那诺-马斯特
- 型号:NTE-3500(A)
- 产地:美国
1、提供NTS系列的系统(NTS-3000, NTS-3500,NTS-4000),具有溅射和蒸发两种能力。通过计算机控制系统,我们可以在同一套系统上提供溅射和蒸发能力,这样可以充分利用溅射和蒸发技术...
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- 品牌: 美国那诺-马斯特
- 型号:NEE-4000(A)
- 产地:美国
NEE-4000电子束蒸发系统为双腔配置,样品台位于主腔体,二级腔体则用于安置电子束源。两腔体之间的门阀作为预真空锁,使得电子束源腔体保持真空的情况下,通过主腔放入基片到样平台(或夹具)上或从中取出。...
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- 品牌: 美国那诺-马斯特
- 型号:NLD-4000(ICPM)
- 产地:美国
ALD原子层沉积可以满足准确膜厚控制以及高深宽比结构的保形沉积,这方面ALD原子层沉积远超过其它沉积技术。由于前驱体流量的随意性不会带来影响,所以在ALD原子层沉积中有序、自限制的表面反应将会带来非统...
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- 品牌: 美国那诺-马斯特
- 型号:NLD-3500(A)
- 产地:美国
ALD原子层沉积可以满足精确膜厚控制以及高深宽比结构的保形沉积,这方面ALD原子层沉积远超过其它沉积技术。由于前驱体流量的随意性不会带来影响,所以在ALD原子层沉积中有序、自限制的表面反应将会带来非统...
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晶圆清洗设备 兆声清洗机 那诺-马斯特价格:面议
- 品牌: 美国那诺-马斯特
- 型号:SWC系列/LSC系列
- 产地:美国
Nano-Master兆声单晶圆及掩模版清洗机提供高可重复性、高均匀性及的兆声清洗、兆声辅助下光刻胶剥离,以及湿法刻蚀。该系统配套机械手,也可以升级为多系统的集成架构。它可以在一个工艺步骤中包含了的无...
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- 品牌: 美国那诺-马斯特
- 型号:SWC-4000
- 产地:美国
SWC-4000兆声晶圆(掩模版)清洗机:Nano-Master兆声单晶圆及掩模版清洗机提供高可重复性、高均匀性及的兆声清洗、兆声辅助下光刻胶剥离,以及湿法刻蚀。它可以在一个工艺步骤中包含了的无损兆声...
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- 品牌: 美国那诺-马斯特
- 型号:NIE-4000(M)
- 产地:美国
如铜和金等金属不含挥发性化合物,这些金属的刻蚀无法在RIE系统中完成。然而通过加速的Ar离子进行物理刻蚀则是可能的。通常情况下,样品表面采用厚胶作为掩模层,刻蚀期间富有能量的离子流会使得基片和光刻胶过...
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美国那诺-马斯特
Nano-Master的前身是那诺-马斯特美国,该公司是法国那诺-马斯特有限公司于1992年在美国所创立的全资子公司,是一家国际领先的缺陷检测和高速镀层测量的计量公司。自从1993年开始Birol Kuyel博士全面接管那诺-马斯特美国并正式更名。 自2001年Nano-Master开始设计开发薄膜应用方面的设备,正式面世的系统依次是磁控溅射、PECVD、晶圆/掩模版清洗系统…。应用领域涵盖了半导体、MEMS、光电子学、纳米技术和光伏等。
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美国那诺-马斯特解决方案
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兆声晶圆清洗技术应用
兆声晶圆(掩模版)清洗机:Nano-Master兆声单晶圆及掩模版清洗机提供高可重复性、高均匀性及兆声清洗。它可以在一个工艺步骤中包含了的无损兆声清洗、化学试剂清洗、刷子清洗以及干燥功能。兆声晶圆(掩...
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ICP等离子刻蚀系统应用
全自动ICP等离子刻蚀系统:自动上下载片,带ICP等离子源和偏压样品台的高速刻蚀系统,系统可以达到高速率、低损伤、高深宽比的刻蚀效果。可实现范围广泛的刻蚀工艺,包括刻蚀III-V化合物(如GaAs,I...
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ALD原子层沉积技术应用
ALD设备:ALD原子层沉积可以满足膜厚控制以及高深宽比结构的保形沉积,这方面ALD原子层沉积远超过其它沉积技术。由于前驱体流量的随意性不会带来影响,所以在ALD原子层沉积中有序、自限制的表面反应将会...
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磁控溅射系统的行业应用
磁控溅射系统概述:带有水冷或者加热(可加热到700度)功能,可达8"旋转平台,可支持4个偏轴平面磁控管。系统配套涡轮分子泵,极限真空可达10-7 Torr,15分钟内可以达到10-...
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兆声晶圆清洗技术应用
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美国那诺-马斯特技术资料
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ALD 原子层沉积
ALD原子层沉积可以满足精确膜厚控制以及高深宽比结构的保形沉积,这方面ALD原子层沉积远超过其它沉积技术。由于前驱体流量的随意性不会带来影响,所以在ALD原子层沉积中有序、自限制的表面反应将会带来非统...
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PECVD 等离子增强化学气相沉积
PECVD 等离子增强化学气相沉积 产品样册
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Therma Evaporation 热蒸发镀膜
Therma Evaporation 热蒸发镀膜 产品样册
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Sputter 磁控溅射镀膜
Sputter 磁控溅射镀膜 产品样册
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ALD 原子层沉积
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美国那诺-马斯特产品文章
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ALD技术在GaN功率器件上的优势
氮化镓(GaN) 是由氮和镓组成的一种半导体材料,因为其禁带宽度大于2.2eV,又被称为宽禁带半导体材料。宽禁带半导体材料有着更高得多的临界雪崩击穿场强,较高的热导率。基于宽禁带半导体材料的电力电子器...
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电子束蒸发镀膜
电子束蒸发镀膜 一、电子束蒸发镀膜简述: 电子束蒸发镀膜(Electron Beam Evaporation)是物理气相沉积的一种,与传统蒸镀方式不同,电子束蒸镀利用电...
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真空蒸发镀膜技术原理
&nbs...
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PECVD原理及应用
PECVD原理及应用 PECVD(Plasma Enhanced Chemical Vaper Deposition)是等离子增强化学气相淀积,该技术是在低气压下,利用低温等离子体在工艺腔体...
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ALD技术在GaN功率器件上的优势
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仪企号那诺—马斯特中国有限公司
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