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解决方案
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ICP等离子刻蚀系统应用
发布：那诺—马斯特中国有限公司浏览次数：1902
全自动ICP等离子刻蚀系统：自动上下载片，带ICP等离子源和偏压样品台的高速刻蚀系统，系统可以达到高速率、低损伤、高深宽比的刻蚀效果。可实现范围广泛的刻蚀工艺，包括刻蚀III-V化合物（如GaAs，InP，GaN，InSb）、II-VI化合物、介质材料、玻璃、石英、金属，以及硅和硅的化合物（如SiO2、Si3N4、SiC、SiGe）等。
全自动ICP等离子刻蚀系统应用领域：
LED
MEMS
光栅
激光器
微光学
声光器件
高频器件/功率器件
量子器件
光子晶体
探测器等
2022-08-16相关仪器 -
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