化学气相沉积分类和应用

化学气相沉积为一种化工技术，在衬底表面上含有薄膜元素的一种或几种气相化合物或单质进行化学反应使得薄膜生成为该技术的主要方法。近几十年化学气相淀积这种对无机材料进行制备的新技术发展了起来。化学气相淀积法已经在各种单晶、多晶或玻璃态无机薄膜材料的淀积，新晶体的研制以及物质的提纯方便得到了非常广泛地应用。这些材料既能够是碳化物、氮化物、硫化物、氧化物也能够为III-V、II-IV、IV-VI族中的二元或多元的元素间化合物，并且能够利用气相掺杂的淀积过程来对它们的物理功能进行精确地控制。化学气相淀积已经变成无机合成化学的一个新领域。

化学气相沉积分类

化学气相沉积包括等离子体增强化学气相沉积，金属有机物化学气相沉积，激光化学气相沉积，超高真空化学气相沉积，低压化学气相沉以及常压化学气相沉积等多种方法。

化学气相沉积应用

化学气相沉积法对晶体、晶体薄膜进行生产

化学气相沉积法除了能够帮助改善晶体或者晶体薄膜的性能，并且也能够将许多其他手段不能够制备出的一些晶体生产出来。化学气相沉积法zui为常见的使用方式为使新的外延单晶层在某个晶体衬底上生成，硅的制备为其zui开始的用途，之后又将外延化合物半导体层制备了

出来。较为常见的是其在如制备 W、Mo、Pt、Ir 等以及如铁酸镍薄膜、钇铁石榴石薄膜、钴铁氧体薄膜等个别的化合物单晶薄膜的制备上。