气相沉积技术分类

气相沉积技术是对气相中发生的物理、化学过程加以利用，对工件表面成分进行改变，使得具有特殊性能(例如超硬耐磨层或具有特殊的光学、电学性能)的金属或化合物涂层在表面形成的新技术。气相沉积一般是将厚度大概为0.5-10微米的一层过渡族元素(钛、钒、铬、锆、钼、钽、铌及铪)与碳、氮、氧和硼的化合物覆盖于工件表面。气相沉积根据过程的本质包括物理气相沉积以及化学气相沉积两大类。气相沉积为强化模具表面的新技术之一，已经在各类模具的表面硬化处理方面得到了非常广泛地应用。TiC，TiN为主要应用的沉积层。

气相沉积技术分类

气相沉积技术一般按照反应类型或者压力来进行分类：快热气相沉积、高密度等离子体气相沉积、等离子体增强气相沉积、超高真空气相沉积、亚常压气相沉积、常压气相沉积以及低压气相沉积均包含于气相沉积技术。之后还有金属有机物气相沉积，它的分类按照金属源的自特性来进行保证。液态为这些金属的典型状态，在向着容器导入之前必须shou先汽化它。不过，把MO气相沉积认为是有机金属气相沉积容易引起某些人的混淆。

从前，一个简单的管式炉结构为对低压气相沉积和常压气相沉积zui为常用的反应室。就算在今天，沉积诸如Si3N4 和二氧化硅之类的基础薄膜也在非常广泛地应用管式炉（氧气中有硅元素存在，将会使得高质量的SiO2zui终得以形成，然而如此会使硅元素大量消耗，SiO2通过硅烷和氧气反应很有可能被沉积出来，在管式炉中能够进行这两种方法）。

并且，zui近单片淀积工艺推动并且使得新的气相沉积反应室结构产生了。等离子体的使用在些新的结构中占据绝大多数。其中一部分是为了使反应过程加快，也有一些系统外加一个按钮，来对淀积膜的质量进行控制。在等离子体增强气相沉积和高密度等离子体气相沉积系统中有些方面还特别令人感兴趣是利用对能量，偏压以及其它参数进行调节，能够使沉积和蚀刻反应的功能同时拥有。利用对淀积：蚀刻比率进行调整，使一个很好的缝隙填充工艺尽可能得到。