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钙钛矿镀膜机
品牌:沈阳科晶
型号:钙钛矿镀膜机
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英国Oxford Vacuum 电子束蒸发镀膜机Vapour Station 4
品牌:英国Oxford Vacuum
型号:Vapour Station
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徕卡低真空镀膜仪-Leica EM ACE200
品牌:徕卡显微系统
型号:Leica EM ACE200
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Obducat纳米压印EITRE® 3
品牌:瑞典Obducat
型号:EITRE®
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Oxford镀膜机PlasmaLab System100
品牌:牛津仪器
型号:PlasmaLab System100
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徕卡显微系统美国MVSystems奥匹维特北京博远微纳美国Trion美国ANRIC美国AGS Plasma上海实贝美国VAC美国Gatan英国Cressington德国普发真空美国泰德派勒沈阳科晶韩国ECOPIA上海三研美国Denton Vacuum白罗斯MTM美国Veeco 英国Ossila北京莱普特日本Advance Riko英国HHV法国Plassys日本SDI牛津仪器英国Oxford Vacuum丹麦Stensborg上海埃飞北京维意韩国DCN德国relyon plasma美国Rocky Mountain北京伊特克斯英国Agar Scientific上海程造瑞典Obducat德国布鲁克美国化仪深圳科时达美国那诺-马斯特郑州科探成都超迈光电
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Oxford镀膜机PlasmaLab System100
- 品牌:牛津仪器
- 型号: PlasmaLab System100
- 产地:英国
英国OXFORD镀膜机PlasmaLab System100
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Ossila浸渍提拉镀膜机
- 品牌:英国Ossila
- 型号: L2006
- 产地:英国
Ossila浸胶机性能zhuo越,内置软件操作简单,价格经济,是科研领域工作者理想的高品质涂胶工具。 浸胶式涂布是工业和科研领域应用广泛的薄片材料镀膜工艺。它可以控制基片从溶液中取出的速度,从而改变镀膜沉积膜的厚度。Ossila浸胶机使用高精度电机,可以极ng准控制膜片提出速度-进而控制涂层厚度,保证良好重复性。 Ossila浸胶机通过狭缝涂布机和注射泵的高精度平台,保证平台活动的高极ng准性,产生优质膜片,重复性好-每次都能如您所愿。本产品提供为期2年的质保,为使用者提供更高的保障。
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全自动原子层沉积系统(ALD)
- 品牌:美国Veeco
- 型号: Fiji G2 Plasma ALD
- 产地:美国
Veeco(之前称之为Cambridge Nanotech)已经有15年以上的ALD研发生产经验。2003年Cambridge Nanotech成立于哈佛大学,05年搬到Boston并生产出Thermal ALD - Savannah, 之后生产出Plasam ALD - Fuji、批量生产ALD-Phoenix。2017年被Veeco收购,并更新了Batch HVM ALD - Firebird。至今为止,Veeco在ALD设备已有15年多的经验,全球已安装五百多台ALD设备。方式: Plasma &a
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金/碳镀膜机
- 品牌:美国Denton Vacuum
- 型号: Desk V HP
- 产地:美国
产品简介蒸发膜的厚度分布蒸发源的排放分布特性可用于确定真空室中用于生产均匀厚度涂层的正确几何形状。在大孔径衬底上或者在装载有许多小衬底的架子上生产均匀厚度的涂层可以通过对装有测试件的架子进行重复试验来完成。从一次试运行到下一次试运行,有意改变了几何形状 - 例如蒸发源的偏移量增加了,直到找到**排列。在本文中,我们首先测量了位于已知径向距离处的测试件上的涂层的厚度,在真空蒸发室中的单个旋转平板架上,并使用这些数据来查找源发射函数。然后使用已知的发射函数来确定在直径上产生**厚度均匀性的源偏移和弧线曲率。&
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徕卡 高真空镀膜机 Leica EM ACE600
- 品牌:徕卡显微系统
- 型号: Leica EM ACE600
- 产地:德国
Leica EM ACE600是优良的多用途高真空薄膜沉积系统,设计来根据您的FE-SEM和TEM应用的需要生产非常薄的,细粒度的和导电的金属和碳涂层,用于zui高分辨率分析。
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徕卡 低真空镀膜机 喷金仪|喷碳仪|蒸镀仪 Leica EM ACE200
- 品牌:徕卡显微系统
- 型号: Leica EM AC
- 产地:德国
配置为溅射镀膜机或碳丝蒸发镀膜机后,可以在全自动化系统中获得可重复的结果,实现了一台EM ACE200具有喷金仪,喷碳仪,蒸镀仪三种功能。
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美国Denton Vacuum 金/碳镀膜机
- 品牌:美国Denton Vacuum
- 型号: Desk V
- 产地:美国
蒸发源的排放分布特性可用于确定真空室中用于生产均匀厚度涂层的正确几何形状。 在大孔径衬底上或者在装载有许多小衬底的架子上生产均匀厚度的涂层可以通过对装有测试件的架子进行重复试验来完成。从一次试运行到下一次试运行,有意改变了几何形状 - 例如蒸发源的偏移量增加了,直到找到**排列。
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Ossila浸渍提拉镀膜机
- 品牌:英国Ossila
- 型号: L2006
- 产地:英国
Ossila浸胶机性能zhuo越,内置软件操作简单,价格经济,是科研领域工作者理想的高品质涂胶工具。 浸胶式涂布是工业和科研领域应用广泛的薄片材料镀膜工艺。它可以控制基片从溶液中取出的速度,从而改变镀膜沉积膜的厚度。Ossila浸胶机使用高精度电机,可以极ng准控制膜片提出速度-进而控制涂层厚度,保证良好重复性。 Ossila浸胶机通过狭缝涂布机和注射泵的高精度平台,保证平台活动的高极ng准性,产生优质膜片,重复性好-每次都能如您所愿。本产品提供为期2年的质保,为使用者提供更高的保障。
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法国Plassys微波等离子体化学气相沉积系统 SSDR 150
- 品牌:法国Plassys
- 型号: SSDR 150
- 产地:法国
法国Plassys微波等离子体化学气相沉积系统 SSDR 150 ,专门用于合成 CVD 金刚石薄膜,能够制备高纯单晶(需高纯气源)、厚单晶、大单晶、多晶薄膜、光学级窗口。SSDR150 不断优化的微波及等离子体设计,是一款可靠的、稳定的、长时间运行的金刚石薄膜生长系统,能够wan美地适用于高校科研和企业生产。
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英国Oxford Vacuum 电子束蒸发镀膜机Vapour Station 4
- 品牌:英国Oxford Vacuum
- 型号: Vapour Station
- 产地:英国
英国Oxford Vacuum 电子束蒸发镀膜机Vapour Station 4,该电子束蒸发镀膜仪是一款微纳器件样品制备系统,为有机无机多源有 气相分子沉积系统,高真空条件下,通过加热材料的方法,在衬底上沉积各 种化合物、混合物单层或多层膜,具有高真空多源有机、金属电阻蒸发及手 套箱保护条件下器件后期制作,主要用于有机半导体材料的物理化学性能, 研究实验、有机半导体器件的原理研究实验也可用于普通金属电极蒸发镀膜研究。
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法国Plassys超高真空多腔体电子束镀膜机 MEB550SL3
- 品牌:法国Plassys
- 型号: MEB550SL3
- 产地:法国
MEB550SL3法国Plassys超高真空多腔体电子束镀膜机,电子束蒸镀仪是纳米器件制备中必不可少的仪器,用于蒸镀各种高纯金属薄膜,如Ti, Au, Ni, Cr, Al, Al2O3等。电子束蒸发沉积法可在同一蒸发沉积装置中安装多个坩埚,使得可以蒸发和沉积多种不同的高质量金属薄膜。开展量子计算机实验研究,如基于金刚石NV色心,离子阱,超导量子结,量子点电子自旋的研究,均需要蒸镀各种高质量金属薄膜来制备量子器件,特别是在利用超导量子结来实现量子计算的实验研究中。
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英国HHV科研用真空镀膜系统 Auto500,Ats500
- 品牌:英国HHV
- 型号: Auto500/Ats500
- 产地:英国
Auto500是一套多功能的真空镀膜系统平台,主要用于科学研究、技术开发或试生产。其真空腔室采用了前开门的箱式设计,可以容纳大尺寸样品。通过可选择的设备配置能分别实现热阻蒸发、电子束蒸发及磁控溅射等各种物理气相沉积工艺,甚至也可以将前面三种镀膜工艺同时组合在一台设备里。
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Oxford镀膜机PlasmaLab System100
- 品牌:牛津仪器
- 型号: PlasmaLab System100
- 产地:英国
英国OXFORD镀膜机PlasmaLab System100
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英国HHV桌上型溅射镀膜仪BT150和BT300 英国HHV桌上型溅射镀膜仪BT150和BT300,
- 品牌:英国HHV
- 型号: BT150,BT300
- 产地:英国
英国HHV桌上型溅射镀膜仪BT150和BT300,新系列小型桌上系统,触摸屏显示控制,适合于SEM及TEM电镜样品制备及常规科研的全功能系统。 咨询购买
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PlasmaPro 80 ICPCVD 英国Oxford 牛津等离子沉积机
- 品牌:牛津仪器
- 型号: PlasmaPro 80 ICPCVD
- 产地:英国
PlasmaPro 80 ICPCVD是一种结构紧凑且使用方便的小型直开式系统,可以提供多种刻蚀和沉积的解决方案。 它易于放置,便于使用,且能够确保工艺性能。直开式设计可实现快速晶圆装卸,是科学研究、原型设计和小批量生产的理想选择。 它通过优化的电极冷却和出色的衬底温度控制来实现高性能工艺。
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TF500/TF600 适合先进研发和试生产的全功能真空镀膜系统
- 品牌:英国HHV
- 型号: TF500/TF600
- 产地:英国
TF500/TF600 适合先进研发和试生产的全功能真空镀膜系统,具有高级工艺能力。系统配置可选择多种腔室尺寸和工艺附件,以精确的符合用户需求。这两个型号的系统都可以安装多个镀膜源,也都支持离子束处理选项。有一系列预进样室(Load Lock)和样品操纵装置可供选择,以提高真空镀膜效率。
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英国HHV科研用真空镀膜系统 Auto500,Ats500
- 品牌:英国HHV
- 型号: Auto500,Ats500
- 产地:英国
英国HHV科研用真空镀膜系统 Auto500,Ats500 适合研究开发需求的多功能系统平台
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TF500/TF600 适合先进研发和试生产的全功能系统
- 品牌:英国HHV
- 型号: TF500/TF600
- 产地:英国
TF500/TF600 适合先进研发和试生产的全功能系统,具有高级工艺能力。系统配置可选择多种腔室尺寸和工艺附件,以精确的符合用户需求。这两个型号的系统都可以安装多个镀膜源,也都支持离子束处理选项。有一系列预进样室(Load Lock)和样品操纵装置可供选择,以提高真空镀膜效率。
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英国HHV Auto306 科研工作者和电子显微学家的多功能镀膜设备
- 品牌:英国HHV
- 型号: Auto306
- 产地:英国
Auto306可选择配置钟罩式玻璃腔室、圆柱形玻璃腔室,也可以配置通用的FL400前开门式不锈钢箱式腔室。FL400腔室具有额外的高度与宽度,适用于安装较多的工艺附件。
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英国HHV Auto500GB 适合手套箱集成的真空镀膜系统
- 品牌:英国HHV
- 型号: Auto500GB
- 产地:英国
Auto500GB是专门设计用于手套箱集成使用的镀膜设备,满足氧气或水汽敏感的材料镀膜的应用要求。该系统配了一个特殊结构的真空腔室,可直接与市场上大多数手套箱集成到一起。真空腔室的前门可竖直滑动开关,嵌入手套箱内,并占用很少的手套箱空间;其后门是铰链扇式开关,能在不影响手套箱内气氛的情况下轻松维护腔室内工艺组件。
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电弧等离子体沉积系统
- 品牌:日本Advance Riko
- 型号: APD
- 产地:日本
电弧等离子体沉积系统利用通过控制脉冲能量,可以在1.5nm到6nm范围内精确控制纳米颗粒直径,活性好,产量高。多种靶材同时制备可生成新化合物。金属/半导体制备同时控制腔体气氛,可以产生氧化物和氮化物薄膜。高能量等离子体可以沉积碳和相关单质体如非晶碳,纳米钻石,碳纳米管 形成新的纳米颗粒催化剂。
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全自动原子层沉积系统(ALD)
- 品牌:美国Veeco
- 型号: Phoenix G2 ALD System
- 产地:美国
Veeco(之前称之为Cambridge Nanotech)已经有15年以上的ALD研发生产经验。2003年Cambridge Nanotech成立于哈佛大学,05年搬到Boston并生产出Thermal ALD - Savannah, 之后生产出Plasam ALD - Fuji、批量生产ALD-Phoenix。2017年被Veeco收购,并更新了Batch HVM ALD - Firebird。至今为止,Veeco在ALD设备已有15年多的经验,全球已安装五百多台ALD设备。方式: Thermal b
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全自动原子层沉积系统(ALD)
- 品牌:美国Veeco
- 型号: Fiji G2 Plasma ALD
- 产地:美国
Veeco(之前称之为Cambridge Nanotech)已经有15年以上的ALD研发生产经验。2003年Cambridge Nanotech成立于哈佛大学,05年搬到Boston并生产出Thermal ALD - Savannah, 之后生产出Plasam ALD - Fuji、批量生产ALD-Phoenix。2017年被Veeco收购,并更新了Batch HVM ALD - Firebird。至今为止,Veeco在ALD设备已有15年多的经验,全球已安装五百多台ALD设备。方式: Plasma &a
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全自动原子层沉积系统(ALD)
- 品牌:美国Veeco
- 型号: Savannah G2 ALD
- 产地:美国
Veeco(之前称之为Cambridge Nanotech)已经有15年以上的ALD研发生产经验。2003年Cambridge Nanotech成立于哈佛大学,05年搬到Boston并生产出Thermal ALD - Savannah, 之后生产出Plasam ALD - Fuji、批量生产ALD-Phoenix。2017年被Veeco收购,并更新了Batch HVM ALD - Firebird。至今为止,Veeco在ALD设备已有15年多的经验,全球已安装五百多台ALD设备。方式: Thermal
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低真空镀膜机 喷金仪|喷碳仪|蒸镀仪 Leica EM ACE200
- 品牌:徕卡显微系统
- 型号: Leica EM AC
- 产地:德国
低真空镀膜机 喷金仪|喷碳仪|蒸镀仪 Leica EM ACE200
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Easy-200半自动封板机/封膜机/压膜机
- 品牌:北京莱普特
- 型号: Easy-200
- 产地:海淀区
产品介绍:Easy-200半自动封板机/封膜机/压膜机是一款通过热封各种专用热封膜来防止各种微孔板(PCR板、深孔贮存板、酶标板以及细胞培养板)在检测过程中的蒸发、泄漏引起的样品损失及空间交叉污染的封膜仪器。该机外观设计简洁大方,操作简单,封板压力灵活可调,标准板到深孔板皆可适用,适用板类范围更广。封板温度和封板时间都可灵活设置,快速加热,实时显示封板的温度。适用普通胶封膜、热封膜、可穿刺热封膜、光学热封膜(定量PCR)、热封膜。替代手工封膜,保证封板牢固,密封操作自动化,均匀的压力保证封膜效果均匀一致。
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粉末原子层沉积系统ALD
- 品牌:深圳科时达
- 型号: Angstrom-dep
- 产地:美国
原子层沉积系统 Atomic Layer Deposition System 产地:美国Angstrom; 型号:Angstrom Dep II, Angstrom Dep III; 原子层沉积技术(Atomic Layer Deposition)是一种原子尺度的薄膜制备技术,它可以沉积均匀一致、厚度可控、成分可调的超薄薄膜。随着纳米技术和半导体微电子技术的发展,器件和材料的尺寸要求不断地降低,同时器件结构中的宽深比不断增加,这样就要求所使用材料的厚度降低至十几纳米到几个纳米数量级。因此原子层沉积技术逐渐成为了相关制造领域不可替代的技术,其优势决定了它具有巨大的发展潜力和更加广阔的应用空间。
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美国 NBM PLD脉冲激光沉积系统
- 品牌:深圳科时达
- 型号: PLD-300
- 产地:美国
脉冲激光沉积系统-PLD 型号:AP-PLD230 脉冲激光沉积系统(PLD)是将脉冲激光导入真空腔内照射到成膜靶上,靶被照射后吸收高密度能量而形成的plume状等离子体状态,然后被堆积到设在对面的基板上而成膜。PLD方法可以获得拥有热力学理论上准稳定状态的组成和构造的人工合成薄膜材料。 我们PLD系统拥有最好的性能价比, 用户用最少的钱买到研究级高性能的纯进口PLD系统。
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全自动原子层沉积系统(ALD)
- 品牌:美国Veeco
- 型号: Firebird
- 产地:美国
Veeco(之前称之为Cambridge Nanotech)已经有15年以上的ALD研发生产经验。2003年Cambridge Nanotech成立于哈佛大学,05年搬到Boston并生产出Thermal ALD - Savannah, 之后生产出Plasam ALD - Fuji、批量生产ALD-Phoenix。2017年被Veeco收购,并更新了Batch HVM ALD - Firebird。至今为止,Veeco在ALD设备已有15年多的经验,全球已安装五百多台ALD设备。Firebird Batc
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金/碳镀膜机
- 品牌:美国Denton Vacuum
- 型号: Desk V HP
- 产地:美国
产品简介蒸发膜的厚度分布蒸发源的排放分布特性可用于确定真空室中用于生产均匀厚度涂层的正确几何形状。在大孔径衬底上或者在装载有许多小衬底的架子上生产均匀厚度的涂层可以通过对装有测试件的架子进行重复试验来完成。从一次试运行到下一次试运行,有意改变了几何形状 - 例如蒸发源的偏移量增加了,直到找到**排列。在本文中,我们首先测量了位于已知径向距离处的测试件上的涂层的厚度,在真空蒸发室中的单个旋转平板架上,并使用这些数据来查找源发射函数。然后使用已知的发射函数来确定在直径上产生**厚度均匀性的源偏移和弧线曲率。&
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Obducat纳米压印EITRE® 3
- 品牌:瑞典Obducat
- 型号: EITRE®
- 产地:瑞典
纳米压印技术NIL(NanoImprint Lithography technology)类似于古代的印章,是一项图形转移和复制技术。1995年,普林斯顿大学纳米结构实验室Stephen Y.Chou教授通过机械力在涂有高分子材料的硅基板上等比例压印复制了模版上的纳米图案,其加工分辨率只与模版图案尺寸有关,而不受光刻最短曝光波长的物理限制,由此引出纳米压印技术。
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德国布劳恩 真空蒸镀系统MINIvap
- 品牌:深圳科时达
- 型号: MINIvap
- 产地:德国
可集成MBRAUN手套箱(由过渡舱实现连接)· 可处理50 x 50 mm大小的晶圆基板· 紧凑型设计· 低成本、经
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德国布劳恩 真空蒸镀系统UNIvap
- 品牌:深圳科时达
- 型号: UNIvap
- 产地:德国
· 可单独使用· 紧凑型设计· 经济型解决方案· &nbs
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瑞士Safematic 高真空涂层镀膜系统
- 品牌:深圳科时达
- 型号: CCU-010
- 产地:瑞士
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SemDex A32型全自动晶圆厚度检测系统
- 品牌:英国HHV
- 型号: SemDex A32
- 产地:德国
产品特点: - 兼容4,6,8,12寸样品; - 所有检测数据,一步同时完成测量; - 可在一台仪器上搭配不同技术的测量探头,用于测量晶圆的厚度、TTV、Bow、Warp、RST、wafer上薄膜厚度,3D形貌,TSV,关键尺寸,粗糙度等参数。 - 符合SEMI S2和S8标准; - 最多可加载4个8寸片Load Port或者3个12寸片Load Port; - 两个可翻转的机械手臂,吞吐量最高达100 wafers /h; - 旋转台用于晶圆全尺寸快速测量; - SECS/GEM软件包,可以根据用户提供定制化需要; - 用户界面友好的WaferSpect 软件; 选配件 1、真空吸盘; 2、高分辨率HD CMOS相机及图像识别的软件; 3、集成OCR、条形码或QR码识别的摄像头; 4、区分不同Cassette类型的阅读信息板; 5、通过测试数据自动进行分拣 应用行业: - 化合物半导体:研磨芯片厚度控制GaAs,InP, SiC,GaN - 硅基器件前段:功率器件,MEMS,射频MEMS - 硅基器件后段:8”和12”的封装及bumping线,TSV(硅通孔技术) - LED:可用作检测蓝宝石或碳化硅片厚度及TTV - 光通讯:石英材料类
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徕卡 EM ACE600 高真空镀膜机
- 品牌:徕卡显微系统
- 型号: EMACE600
- 产地:德国
Leica EM ACE600是优良的多用途高真空薄膜沉积系统,设计来根据您的FE-SEM和TEM应用的需要生产非常薄的,细粒度的和导电的金属和碳涂层,用于高分辨率分析。
- 镀膜机
- 仪器网导购专场为您提供镀膜机功能原理、规格型号、性能参数、产品价格、详细产品图片以及厂商联系方式等实用信息,您可以通过设置不同查询条件,选择满足您实际需求的产品,同时导购专场还为您提供精品优选镀膜机的相关技术资料、解决方案、招标采购等综合信息。