气相沉积系统气相沉积系统是半导体工业中应用最为广泛的用来沉积多种材料的技术,包括大范围的绝缘材料,大多数金属材料和金属合金材料。气相沉积系统是传统的制备薄膜的技术,其原理是利用气态的先驱反应物,通过原子、分子间化学反应,使得气态前驱体中的某些成分分解,而在基体上形成薄膜。气相沉积系统包括常压化学气相沉积、等离子体辅助化学沉积、激光辅助化学沉积、金属有机化合物沉积等。
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微波等离子化学气相沉积系统-MPCVD
品牌:德国iplas
型号:iplas CYRANNUS
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YES-EcoCoat硅烷单层气相沉积系统
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型号:YES-EcoCoat
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NPE-3500 PECVD等离子体化学气相沉积系统
品牌:美国Nano-Master
型号:NPE-3500PECVD
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NLD-3500 (A) ,全自动原子层沉积系统
品牌:美国Nano-Master
型号:NLD-3500(A),
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Denton 等离子体增强型化学气相沉积 PE-CVD
品牌:美国Denton Vacuum
型号:DentonPE-CVD
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PECVD+RIE等离子体增强化学气相沉积和反应
- 品牌:深圳科时达
- 型号: PECVD+RIE
- 产地:深圳
系统中的PECVD可以沉积高质量SiO2薄膜、Si3N4薄膜、类金刚石薄膜、硬质薄膜、光学薄膜等。标准配置射频(RF),可选用空阴极高密度等离子体(HCD)源、感应耦合等离子体(ICP)源。
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PEALD 原子层沉积系统
- 品牌:深圳科时达
- 型号: PEALD
- 产地:深圳
1.ALD (传统的热原子层沉积);2.PEALD (等离子增强原子层沉积);3.Powder ALD (粉末样品的原子层沉积);仪器简介:原子层沉积(Atomic Layer Deposition,ALD),也称为原子层外延(Atomic Layer Epitaxy,ALE),或原子层化学气相沉积(Atomic Layer Chemical Vapor Deposition。
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美国FALD原子层沉积系统 AT-600
- 品牌:深圳科时达
- 型号: FALDAT-600
- 产地:深圳
原子层沉积(Atomic layer deposition)是一种可以将物质以单原子膜形式一层一层的镀在基底表面的方法。原子层沉积与普通的化学沉积有相似之处。但在原子层沉积过程中,新一层原子膜的化学反应是直接与之前一层相关联的,这种方式使每次反应只沉积一层原子。
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上海微行PECVD型等离子增强化学气相沉积系统
- 品牌:上海微行
- 型号: PECVD型等离子增强化学气相沉积系统
- 产地:苏州
价格有优势,而且服务效率,质量上面好而且有保证。
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卧式低压化学气相沉积炉管
- 品牌:北京华测
- 型号: SVCS
- 产地:海淀区
卧式低压化学气相沉积炉管用于沉积高品质的n型掺杂或非掺杂的多晶硅或非晶硅;用于沉积高品质的低应力氮化硅或氮氧化硅。
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成都纽曼和瑞微波等离子体CVD设备hmps-2060sp
- 品牌:成都纽曼和瑞
- 型号: hmps-2060sp
- 产地:成都
性能先进,安全、可靠性强、重现性好,操作简便。 多参数实时监测、采集与记录,PLC屏幕控制,多重联锁保护
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