2025年9月12日，清华大学材料学院与爱发科费恩斯（南京）仪器有限公司联合举办“软-硬X射线光电子能谱专题学术讲座”，旨在帮助科研人员深入掌握XPS-HAXPES分析技术，推动其在材料表界面研究中的创新应用。
清华大学材料学院苗伟老师在开场致辞中重申，分析测试中心始终遵循“三最”仪器采购原则：最先进、功能最全、性价比最高。在此理念下，实验室先后引进了全球领先的俄歇电子能谱仪PHI 710和最新一代软-硬X射线光电子能谱仪PHI GENESIS 900。PHI GENESIS 900设备整合了XPS、HAXPES、UPS、LEIPS及冷/热台等多功能模块，打造出综合型表征平台，为能源材料与半导体等前沿领域的表界面机制研究提供了强有力的技术支撑。
开场致辞
爱发科费恩斯（南京）仪器有限公司应用与市场总监鞠焕鑫博士在《XPS分析技术前沿进展与创新应用》报告中，系统阐释了XPS技术的原理、新进展与应用前景。他特别指出，PHI公司在微区分析与深度分析方面的突破性成果：扫描微聚焦XPS可实现5μm以下束斑尺寸，显著提升微区成分分析能力；基于Cr Kα的硬X射线XPS将信息深度延伸至30nm，实现了真正意义上的无损深度剖析。PHI GENESIS 900的投入使用，将为材料多尺度表征与研究提供关键支撑。
XPS分析技术前沿进展与创新应用讲座
爱发科费恩斯（南京）仪器有限公司应用工程师冯林博士带来题为《XPS实验技术：从样品制备到数据分析》的报告，系统介绍了XPS样品制备的规范流程与数据分析中的实用技巧，并结合丰富案例解答了常见数据处理问题。
XPS实验技术与数据分析讲座
本次讲座全面解析了XPS-HAXPES与UPS/LEIPS等技术的原理方法、创新应用与数据处理，有效增强了科研人员对表面分析技术的理解与实践能力，为相关领域的高水平研究开展提供了坚实保障。
作为表面分析领域的全球领导者，爱发科费恩斯将继续加强与顶尖学术机构的合作，持续推动XPS/HAXPES技术向更高灵敏度、智能化的方向演进。我们欢迎更多领域研究者加入，共同探索材料表界面科学，以尖端仪器技术助推中国科研与产业创新。
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