SEMICON China 2026｜Park Systems重磅新品发布，诚邀您莅临E6-6139

Park NX-Interferom

  NX-Interferom 是 NX-Hybrid WLI 的下一代产品，通过升级白光干涉光学系统，在兼容多种objective lens 的同时，实现了测量性能的全面提升。

相比上一代系统，NX-Interferom 具备：

? 更大的 FOV视场范围
? 更高的 成像分辨率
? 显著缩短 测量时间

该系统将AFM纳米计量能力与白光干涉测量技术结合，为半导体制造提供高效率、高精度的大面积计量解决方案。

Park NX-Wafer Plus

面向先进制程的晶圆计量平台

NX-Wafer Plus 是专为先进制程工艺控制开发的自动化AFM计量平台。

主要应用包括：

? 高速测量 Cu Pad 凹陷与表面粗糙度
? 多方向增强型 Edge Roll-Off 轮廓分析
? 支持 300mm晶圆自动检测

该系统可提供稳定可靠的纳米级测量数据，为先进晶圆制造工艺提供精准计量支持。

Park NX-TSH300 Overlay

先进封装 Overlay 与 RDL 测量解决方案

随着先进封装技术的发展，Overlay精度与RDL结构检测成为关键工艺控制指标。

NX-TSH300 Overlay 可实现：

? 先进封装中的 Overlay测量
? RDL细间距结构检测
? 单台设备完成 Overlay Offset 与RDL距离测量

为先进封装制造提供高精度计量解决方案。

Park NX-Mask

光掩模缺陷检测与修复解决方案

NX-Mask基于AFM高分辨率计量能力，专为光掩模检测与修复设计：

? Soft / Hard Defect 扫描与缺陷修复
? Blank Mask 表面缺陷修复与AFM测量
? 高精度表面形貌与台阶高度测量

帮助光掩模制造实现更高精度与更稳定的质量控制。