2nm研发顺利、3nm持续满载
据估计,台积电第三季与第四季3、5纳米稼动率几乎满载,进入排单阶段,3纳米满载盛况更延续至2025年。另外,台积电透露,N2研发进展顺利,将如期在2025年进入量产、N2P预计在2026年下半年量产。
随着半导体制造工艺节点的不断缩小,对环境洁净度的要求也越来越高,需要管控的污染物已不仅局限在颗粒灰尘及各种悬浮物,而是精确到了气态分子污染物(AMC)。
AMC分类
国内曾统计过,在无洁净级别要求的环境下生产MOS电路管芯的合格率仅10%~15%,64位储存器仅2%。可见,洁净环境对产品工艺良率的影响巨大。
为了满足对先进工艺的迫切需求和对良率提升的挑战,提供的 AMC 检测 控制 监测一站式解决方案,可根据客户的需求提供多方面的专业服务,以保障对AMC的严格控制。
AMC 检 测
对半导体洁净室进行AMC采样,通过技术诊断分析,确认AMC主要成分及浓度,针对性提出最匹配实际环境需求的解决方案,达到最佳空气净化效果。?
AMC 控 制
化学过滤器是去除AMC的关键技术。化学过滤器采用了先进的材料和技术,不仅具备出色的选择性吸附能力,而且能够根据污染物的种类和浓度进行定制,以适应不同工艺阶段的需求,确保在各个关键工艺中对AMC的高效去除。
AMC 监 测
为了实时掌握AMC含量浓度,确保污染控制的持续稳定性,还需搭建AMC在线监测系统,对洁净室内AMC含量浓度等环境参数进行实时监测,实时掌握空气洁净度的变化趋势,以及任何一次超出控制的异常情况,让污染物在对工艺、产品可能产生不良影响之前就采取措施,清除可能的不良作业、污染源和污染事件。
对AMC污染的控制是一项至关重要和复杂的任务,它涉及多个层级,要求方案精确且全面。除了以上的控制措施,还应该从选址、人员操作、材料设备等源头进行控制,来有效降低AMC的浓度,保证半导体制造过程的稳定性和产品质量的可靠性。
洁净技术应用综合解决方案提供商
400-888-7926 / 0755-27799805
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