半导体制程厂区与设备环境 AMC 监测解决方案

? 使用超净 PFA 采样管进行厂区布点，监测范围可达 35000m2~75000m2

? 自动采样、浓缩、GC-MS 分析、云端存储、AI 自动生成检测报告，并带有超阈报警功能

? 7×24 小时排程自动化监测

? 全流程全部件惰性化涂覆，避免残留与吸附

? 专利设计的捕集系统与聚焦系统，大幅提升检出线，峰形更锐利

? 系统用于实验室中，基于捕集能力强、去除杂质能力强、抗吸附能力强、进样精确度高、各气路专用、全流程无冷点、清洗彻底等特点，共同作用，得到更低的检出限

? 未知成分分析定量：系统可对样本进行物质全分析

? 专为半导体开发的 AMC（VOCs）物质检测方法包

? 检测时效性强：快速定性定量污染物质，及时发掘 AMC（VOCs）污染源头

晶圆石英加热炉，加热挥发进样：

? 专为半导体开发的 AMC（VOCs）物质检测方法包

? 检测时效性强：快速定性定量污染物质，及时发掘 AMC（VOCs）污染源头

? 分析快速

      单质谱走航模式，仪器不经过色谱柱直接进入质谱，秒级分析，实时出具数据。

? 灵敏度高

      针对性溯源，灵敏度更高：单质谱模式，秒级响应，实时动态显示污染情况， 必要时可筛选离子使用 SIM 模式开展针对性走航。

      膜进样技术使得样品进入质谱前可以进行二次富集，提高灵敏度

? 溯源精准

      全新走航模式，深入车间，直指源头

       相对传统走航设备质量更轻、抗震性更强，在传统走航的基础上可进一步进入车间，精准溯源至污染产生工艺点位，帮助企业实现污染点的治理。

? 结果准确

        双重工作模式：走航模式 +GC-MS 定点分析模式

        使用 70eV EI 源 + 四级杆质谱定性定量，充分电离空气中的 VOCs，依托标准 NIST 谱库，准确定性；国标加持，结果与实验室可比。

? 环境适用性强

     非机械泵真空系统，环境适用性更强

     摒弃高速旋转组件，采用非机械真空泵，解决多维大幅振动中无法运行检测等问题。