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美国 Semiconsoft 反射膜厚仪MProbe Vis

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产品特点

MProbe Vis薄膜测厚仪大部分透光或弱吸收的薄膜均可以快速且稳定的被测量。比如:氧化物,氮化物,光刻胶,高分子聚合物,半导体(硅,单晶硅,多晶硅),半导体化合物(AlGaAs, InGaAs,CdTe, CIGS),硬涂层(碳化硅,类金刚石炭),聚合物涂层(聚甲基丙烯酸甲酯,聚酰胺

详细介绍

产品概述

       MProbe Vis薄膜测厚仪大部分透光或弱吸收的薄膜均可以快速且稳定的被测量。比如:氧化物,氮化物,光刻胶,高分子聚合物,半导体(硅,单晶硅,多晶硅),半导体化合物(AlGaAs, InGaAs,CdTe, CIGS),硬涂层(碳化硅,类金刚石炭),聚合物涂层(聚甲基丙烯酸甲酯,聚酰胺

       大部分透光或弱吸收的薄膜均可以快速且稳定的被MProbe Vis测厚仪测量。比如:氧化物,氮化物,光刻胶,高分子聚合物,半导体(硅,单晶硅,多晶硅),半导体化合物(AlGaAs, InGaAs,CdTe, CIGS),硬涂层(碳化硅,类金刚石炭),聚合物涂层(聚甲基丙烯酸甲酯,聚酰胺)。

测量范围: 15 nm -50um

波长范围: 400 nm -1100 nm

MProbe Vis薄膜测厚仪适用于实时在线测量,多层测量,非均匀涂层, 软件包含大量材料库(超过500材料),新材料可以很容易的添加,支持多重算法:Cauchy, Tauc-Lorentz, Cody-Lorentz, EMA等。

测量指标:薄膜厚度,光学常数

界面友好: 一键式测量和分析。

MProbe Vis薄膜测厚仪实用的工具:曲线拟合和灵敏度分析,背景和变形校正,连接层和材料,多样品测量,动态测量和产线批量处理。

案例1,300nm二氧化硅薄膜的测量:

 

硅晶圆反射率,测量时间10ms:

 

案例2,测量500nm氮化铝,测量参数:厚度和表面粗糙度


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