-
-
EVG®610 掩模对准系统
- 品牌:奥地利EVG
- 型号: EVG®610
- 产地:奥地利
- 供应商报价: 面议
- 北京亚科晨旭科技有限公司 更新时间:2024-04-22 09:42:19
-
企业性质授权代理商
入驻年限第4年
营业执照已审核
- 同类产品光刻机(掩膜对准)(8件)
联系方式:绍兵1826-3262536
联系我们时请说明在仪器网(www.yiqi.com)上看到的!
-
为您推荐
- 详细介绍
EVG®610 Mask Alignment System
EVG®610 掩模对准系统
EVG®610是一款紧凑的多功能研发系统,可处理200mm以下的小基板片和晶圆。
技术数据
EVG610支持多种标准光刻工艺,例如真空,硬,软和接近曝光模式,并可选择背面对准。此外,该系统还提供其他功能,包括键对准和纳米压印光刻(NIL)。 EVG610提供快速的处理和重新安装工具,可在不到几分钟的时间内转换用户需求。其先进的多用户概念可以适应从初学者到专家级别的所有需求,因此使其非常适合大学和研发应用。
特征
晶圆/基片尺寸从zui大200 mm / 8'’ 顶侧和底侧对齐能力
高精度对准台 自动楔形补偿序列
电动和配方控制的曝光间隙 支持zui新的UV-LED技术
zui小化系统占地面积和设施要求 分步流程指导
远程技术支持:
多用户概念(无限数量的用户帐户和配方,可分配的访问权限,不同的用户界面语言)
敏捷处理和转换重组;台式或带防震花岗岩台的单机版
附加功能:
键对齐 红外对准 纳米压印光刻(NIL)
技术数据
对齐方式:上侧对齐:≤±0.5 µm 底面要求:≤±2,0 µm
红外校准:≤±2,0 µm /基板材料,具体取决于
键对准:≤±2,0 µm NIL对准:≤±2,0 µm
曝光源:汞光源/紫外线LED光源 楔形补偿 全自动-SW控制
晶圆直径(基板尺寸):高达100/150/200毫米
曝光设定:真空接触/硬接触/软接触/接近模式
曝光选项:间隔暴露/洪水暴露/扇区暴露
先进的对齐功能:手动对准/原位对准验证 手动交叉校正 大间隙对齐
系统控制:作业系统:Windows
文件共享和备份解决方案/无限制配方和参数;多语言用户GUI和支持:CN,DE,FR,IT,JP,KR;实时远程访问,诊断和故障排除;
纳米压印光刻技术,紫外线零。
设备咨询电话:182 6326 2536(微信同号)
- 产品优势
- EVG®610是一款紧凑的多功能研发系统,可处理200mm以下的小基板片和晶圆。
- EVG 610BA 键对准系统
- EVG 620BA 自动键对准系统
- EVG 6200∞BA自动键对准系统
- EVG610 BA 键合对准系统
- 赛默飞Dionex™ ICS-6000高压离子色谱系统
- 赛默飞ISQ™ LT 单四极杆 GC-MS 系统
- 赛默飞ISQ™ QD 单四极杆 GC-MS 系统
- 赛默飞优谱佳UHPLC+高效液相色谱系统
- PerkinElmer FLEXAR™ 液相色谱系统
- 珀金埃尔默 LC 300 HPLC和UHPLC系统
- PerkinElmer Spotlight™ 150i/200i 傅里叶变换红外显微镜系统
- TrasION 1080 ICP-MS 水质金属在线自动监测系统