| 设备简介： 多温区CVD系统一体炉，供气和真空系统灵活组合，满足各类薄膜沉积，在半导体工业中应用非常广泛。包括沉积大面积的绝缘材料，以及大多数金属材料和金属合金材料。诺巴迪成套的CVD镀膜系统，适用于各大高校材料实验室、科研院所、环保科学等领域。
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设备简介：
| 1.采用高纯石英或不锈钢材质炉管，耐腐蚀耐高温性能优越； 2.高纯度Al2O3纤维耐火保温材料，保温效果优越，降低设备功耗； 3.炉体采用双层风冷结构工艺，自动抬升系统开启上盖； 4.NBD-101EP嵌入式操作系统中英文互换图形界面，7寸真彩触屏输入，智能式人机对话模式，实时加热功率显示，非线性式样温度修正；实验报告自主生成，实验数据无限次导出。 5.一体化设备包含多路供气系统，多温区加热系统和高真空系统； | |||||||||||||||
产品型号 | NBD-O1200-80T5G5 | |||||||||||||||
炉管尺寸 | Ø25/Ø50/Ø60/Ø80/Ø100*1600mm | |||||||||||||||
工作温度 | ≤1150℃ | |||||||||||||||
加热区选择(可定制） | 200mm*5或300mm*5 | |||||||||||||||
升温速率 | ≤20℃/min | |||||||||||||||
电气规格 | 三相AC380V 10KW | |||||||||||||||
气体系统（可选购） | 浮子流量计或质量流量计 | |||||||||||||||
管道示意图 |
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进气接口数量 | 2、3、4（多路可选） | |||||||||||||||
流量范围 | 20-250/20-800ml/min......(多量程可选) 50/100/200/500sccm......(多量程可选) | |||||||||||||||
工作压差范围 | 0-0.15MPa | |||||||||||||||
低真空系统（可选购） | 真空泵型号 | NBD-3C/NBD-4C | ||||||||||||||
抽气速率 | 3L/s或4L/s | |||||||||||||||
进排气口尺寸 | KF16/25 | |||||||||||||||
系统真空 | 3~5Pa（真空泵极限真空6.2*10-2Pa） | |||||||||||||||
工作环境温度 | 5-40℃ | |||||||||||||||
电气规格 | AC220V | |||||||||||||||
高真空系统（可选购） | 真空泵型号 | NBD-103(A) | ||||||||||||||
抽气速率 | 110L/s | |||||||||||||||
真空测量计 | 复合真空计 | |||||||||||||||
系统真空 | 4.310^-3Pa | |||||||||||||||
工作温度 | 5-40℃ | |||||||||||||||
电气规格 | AC 220V | |||||||||||||||
* 支持非标定做，更多型号，欢迎来电垂询 | ||||||||||||||||
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立式八通道管式炉是一种设计用于同时处理多个样品或连续物料的高温处理设备，广泛应用于材料科学、化工、冶金、纳米材料制备、陶瓷烧结、催化研究等领域。 拥有八个平行的加热管状腔体通道，可以独立或同时进行加热实验，提高实验效率和吞吐量，同时也允许进行对比实验以提高数据的可靠性和重复性。
本设备提供了在真空或者气氛环境下烧结的环境，所有操作均在触摸屏上完成，方便了客户的操作。本设备为高温旋转炉，炉管采用的是新型氮化硅结合碳化硅制品，具有优异的抗氧化性能， 良好的耐磨性能以及对金属溶液的抗腐蚀性能，是一种新型结构陶瓷材料，为高温物料的烧结提供了稳定的环境。
通过高精度氧分析仪确保无氧工作环境。物料在基于旋转摆振结构的石英腔内，能够在稳定均匀的温场内，Z大程度地与反应气体充分接触。独有悬挂式气相发生器，能够在工作腔摆振的同时，始终保持水平稳定输出。多路质量流量控制器，可精确控制气体流量。高灵敏度压力传感器及电磁阀可保证工作腔室内的压力始终在设定范围。易燃易爆及有毒有害气体检测仪与设备联动。
NBD-CVD1200系列一体机可以实现真空高温化学气相沉积，适用于高校、科研院所、工矿企业做高温气氛烧结、气氛还原、CVD实验、真空退火等试验。
营业执照已审核
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沪公网安备 31011502008050号