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五温区CVD管式烧结炉

为您推荐
五温区CVD管式烧结炉 核心参数
仪器分类: 管式炉 稳定性: 控温精度:±1
最高温度: 1200℃
详细介绍



 


设备简介:

多温区CVD系统一体炉,供气和真空系统灵活组合,满足各类薄膜沉积,在半导体工业中应用非常广泛。包括沉积大面积的绝缘材料,以及大多数金属材料和金属合金材料。诺巴迪成套的CVD镀膜系统,适用于各大高校材料实验室、科研院所、环保科学等领域。 

  


 

 

 

设备简介:

1.采用高纯石英或不锈钢材质炉管,耐腐蚀耐高温性能优越;

2.高纯度Al2O3纤维耐火保温材料,保温效果优越,降低设备功耗;

3.炉体采用双层风冷结构工艺,自动抬升系统开启上盖;

4.NBD-101EP嵌入式操作系统中英文互换图形界面,7寸真彩触屏输入,智能式人机对话模式,实时加热功率显示,非线性式样温度修正;实验报告自主生成,实验数据无限次导出。

5.一体化设备包含多路供气系统,多温区加热系统和高真空系统;

产品型号

NBD-O1200-80T5G5

炉管尺寸

Ø25/Ø50/Ø60/Ø80/Ø100*1600mm

工作温度

≤1150℃

加热区选择(可定制)

200mm*5或300mm*5

升温速率

≤20℃/min

电气规格

三相AC380V 10KW

气体系统(可选购)

浮子流量计或质量流量计

管道示意图

 

进气接口数量

2、3、4(多路可选)

流量范围

20-250/20-800ml/min......(多量程可选)

50/100/200/500sccm......(多量程可选)

工作压差范围

0-0.15MPa

低真空系统(可选购)

真空泵型号

NBD-3C/NBD-4C

抽气速率

3L/s或4L/s

进排气口尺寸

KF16/25

系统真空

3~5Pa(真空泵极限真空6.2*10-2Pa)

工作环境温度

5-40℃

电气规格

AC220V

高真空系统(可选购)

真空泵型号

NBD-103(A)

抽气速率

110L/s

真空测量计

复合真空计

系统真空

4.310^-3Pa

工作温度

5-40℃

电气规格

AC 220V

* 支持非标定做,更多型号,欢迎来电垂询

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产品优势
多温区CVD系统一体炉,供气和真空系统灵活组合,满足各类薄膜沉积,是半导体工业中应用最为广泛的用来沉积薄膜材料的技术,包括大面积的绝缘材料,以及大多数金属材料和金属合金材料。诺巴迪成套的CVD镀膜系统,适用于各大高校材料实验室、科研院所、环保科学等领域。
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