简介
XUV多层反光镜

X射线多层反射镜

应用实例 | 基板材料 | 典型波长 | ||||
XUV(EUV) 反射镜 | ||||||
EUV光刻 高阶谐波应用 阿秒科学 X射线激光器 | 多层反射镜 | Mp/Si Ru/Si Zr/Al SiC/Mg Cr/C | 50电子伏至100电子伏 50电子伏至100电子伏 50电子伏至70电子伏 25电子伏至50电子伏 至300电子伏 | |||
单层反射镜 | SiC Pt Ru | 10电子伏至100电子伏 | ||||
X射线反射镜 | ||||||
同步加速器应用 XFEL应用 内置X射线无损 检查设备 | 多层反射镜 | W/C W/B4C Ru/C Pt/C | 1k电子伏至30k电子伏 | |||
单层反射镜 | C B4C SiC Cr Ni | 1k电子伏至30k电子伏 | ||||
XUV多层反光镜 | ||||||
描述 | 基板形状:平面、凸形、凹形、抛物面、超环面、椭圆面 基板材料:石英、硅、zero dewer等 多层膜材料:Mo/Si、Ru/Si、Zr/Al、SiC/Mg、Cr/C等 基板尺寸:φ3毫米至φ300毫米 Mo/Si多层反射镜具有接近13纳米(90电子伏)波长的高反射率。NTT-AT的Mo/Si多层反射镜具有达70%的正入射反射率。 NTT-AT的XUV反射镜的材料、膜结构和基板形状可以定制以满足用户有关中心波长和光学装置的需求。 基板形状:平面、椭圆面、抛物面、柱面、超环面 基板:石英、硅、zero dewer等 基板材料:W/B4C、W/C、Pt/C等 基板尺寸:大500毫米 NTT-AT提供K-B反射镜系统、沃尔特反射镜等 | |||||
X射线多层反射镜 | ||||||
描述 | 反射率,粉红色;计算的反射率,周期长度: 2.95纳米)W/B4C多层和W/C多层膜反射镜对硬X射线应用具有高反射率。为了有效反射和聚集硬X射线,必须大限度地缩小入射角的斜角。这需要较长的反射镜长度和较小的多层膜周长。 | |||||
单层反射镜 | ||||||
描述 | 基板形状:平面、椭圆面、抛物面、柱面、超环面 基板材料:石英、硅、zero dewer等 多层材料:C、B4C、SiC、Ru、NbN、Pt等 基板尺寸:大500毫米 利用全反射的单层反射镜用于波束控制、光聚合和去除XUV至X射线范围内的无需波长。 NTT-AT的单层反射镜的材料和基板形状可以定制以满足用户有关中心波长和光学装置的需求。 带钌层的椭圆面反射镜 | |||||
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将传统玻片数字化,进行存储与管理,可建立数字切片库,便于培训、分析、管理等,脱离时间、空间限制。
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电子束曝光一种高分辨率的微细加工技术,广泛应用于纳米科技和半导体制造领域。其基本原理是利用聚焦的电子束在光刻胶上进行直接写入,通过改变光刻胶的化学性质来形成微纳米结构图案。上海纳腾仪器有限公司自主研发的电子束曝光机(Pharos系列产品), 具有高分辨率、 精准控制和高度自动化的优势, 被广泛应用于制备半导体芯片、 光子学元件和其他微纳米结构等领域, 是进行亚微米至纳米级曝光技术研发的理想工具。
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较为低的曲率半径:每根针经过质检; 较小探针差异:较为特加工工艺实现精准控制