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德国Osiris CMP后晶圆清洗机
- 品牌:德国Osiris
- 型号: CHEMIXX CMP 30PM
- 产地:欧洲 德国
- 供应商报价:面议
- 倬昊纳米科技(上海)中心 更新时间:2024-04-21 22:44:05
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销售范围售全国
入驻年限第3年
营业执照已审核
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详细介绍
产品简介
CHEMIXX CMP 30pm为独立系统,占地面积小,非常适合有限的空间。它提供了一个处理站,包括一个洗涤器模块和一个电动介质臂,最多 4 个介质线/喷嘴。 专门开发的卡盘允许从上方和下方同时清洁晶圆。
产品特色
-晶圆最大 300mm
-机械清洗(双面);
-洗涤器模块(由PVA制成的刷子)
-去离子水、稀释氨水和 SC1 点胶。
-双面清洁夹头(4 或 8 英寸);
带轮驱动组件,用于低速旋转(50-100 rpm)
1x 化学清洗(顶部); 介质臂
-于 4 条线/喷嘴的电动介质臂。
-用于去离子水和稀释氨分配的水坑喷嘴
-去离子水的 BSR(背面冲洗)喷嘴
-手动和安全联锁工艺室门
-带有流通孔的工艺室盖。
-用于三种不同化学品的三个集成培养基供应系统。
-工艺室外的手动去离子水枪。
-带有四个灯区的信号灯,用于显示系统状态
-系统前端的紧急停止按钮
选项
-加热介质线最高可达 60°C(85°C 取决于介质)
-用于10或20升不同化学品装罐的外部介质容器。
技术数据
通用
衬底尺寸: Ø200 mm (Ø8 inch) 或 Ø300 mm (Ø12 inch)
电机转速: 最大 3.000 转数, 以 1 转 步进可编程*
电机加速: 1 至 999.9 秒,以 0.1 秒为步长可编程
系统架构: 由粉末涂层不锈钢制成
系统外壳: 由 PP 白色制成(可选 FM 4910) ,4 个可调节支脚
加工碗: 由 PP 天然制成
处理室: 由 PP 白色制成(可选 PVDF)
要求
电源: 400(208) VAC / 3 相 / N / PE / 50(60) Hz
CDA: 8 巴(800KPa), 管 OD Ø10 mm
真空: -0.8 巴 (-80KPa)/ -600 托尔, 管 OD Ø10 mm
去离子水: 4 巴(400KPa), OD Ø16.7 mm (3/8”)
氮 (可选): 4.5 巴(450KPa), PFA tube OD Ø10 mm
排水: 重力 OD Ø38mm
排气过程: 1x OD Ø110mm, 50-180 m3/h
尺寸 (宽X深X高) 大约
系统外壳: 1200 x 650/850 x 1300/1900 mm (47.2 x 25.6/33.5 x 51.2/74.8 inch)
高度(盖子打开): 2000 mm (78.7 inch)