
※ 广泛应用于导体、半导体和绝缘体等领域。
※ 用于纳米级表面成分定性或定量分析,实现二次离子图像 与二次电子图像分析。配置离子刻蚀枪,可进行材料深度 分布分析。
※ 并行探测所有离子,包括有机和无机分析碎片。
※ 宽范围的质量探测范围(实际测量中>1000m/z原子 量)。
※ 极高的空间分辨率。 ※ 超高灵敏度1E+9 atoms/cm 。
※ 导体、半导体和绝缘体表面均可测试。
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PHI nano TOF3+,先进的多功能TOF-SIMS具有更强大的微区分析能力,更加出色的分析精度