SS-150系列扫描电镜
SS-150系列电子显微镜
Tub SS 1/32 x 150μm(.006in) x 20cm
Tub SS 1/32 x 150μm(.006in) x 30cm
SS 150 uL In-Line Hi Pressure Mixer Assy
- 可放大倍率15万倍
- 图像景深高,立体感强,分辨率高
- 载物台5轴操控(倾斜功能)
- 配备四级可变光阑(30,50,100,200um),通过调整电子束大小可提供高分辨率图像
- 自动变焦,自动调整对比度和亮度,调整电子束尺寸,消象散
- 样品舱大,可进行多种多样样品分析,可选配EDS,BSE,马达操控载物台等多种配件
分辨率
| 5nm (30kV, SE Image) | |
放大倍率 | 30x~150,000x | |
加速电压 | 5kV to 30kV (5Kv/10Kv/15kV/20kV/30Kv-5 step) | |
图像检测
| 二次电子图像 | |
背散射电子图像(选配) | ||
观察模式 | Standard Mode | |
电子枪系统 | ||
灯丝类型 | 预对中钨灯丝 | |
偏压系统 | 自动偏压方式 | |
电子枪校正 | 手动方式 | |
透镜构成 | ||
聚光镜 | 2段式磁线圈透镜 | |
物镜 | 1段式磁线圈透镜 | |
探测器类型 | E-T Detector | |
载物台系统 | ||
载物台移动 | 5轴操控 | |
图像偏移 | Image shift X, Y Image Shift (±150um) | |
样品最大尺寸 | 高度35mm时最大直径80mm, | |
图像扫描 | 快速扫描 | |
低速扫描 | ||
图片模式 | ||
图片模式 | ||
图片模式 | ||
自动功能 | 自动启动、自动聚焦、自动亮度对比度调节 | |
图像存 储格式 | BMP, JPEG, PNG,TIFF | |
数据显示 | 放大倍率,探测器类型,电压,真空模式,Logo, Date and time,Text marker,比例尺等 | |
真空系统 | 全自动型/高真空模式+低真空模式(旋转式机械泵)(涡轮式分子泵)抽真空时间:3分钟以内 | |
操控系统 | 鼠标和键盘 | |
电脑配置 | PC:台式电脑 USB 2.0 | |
软件 | 图像文件打开,编辑,存储功能长度,面积,角度等测量功能 | |
体积 | 设备主机-410(W)×350(D)×600(H)mm……1set 控制主机-410(W)×290(D)×520(H)mm……1set | |
重量 | 98kg | |
设备环境 | 温度:15℃~30℃ | |
报价:¥1
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S-4800型高分辨场发射扫描电镜(简称S-4800)为日本日立公司于2002年推出的产品。该电镜的电子发射源为冷场,物镜为半浸没式。在高加速电压(15kV)下,S-4800的二次电子图像分辨率为1 nm,这是目前半浸没式冷场发射扫描电镜所能达到的最高水平。该电镜在低加速电压(1kV)下的二次电子图像分辨率为2nm,这有利于观察绝缘或导电性差的样品。S-4800的主要附件为X射线能谱仪。
二手 日立 SEM+EDX 冷场电镜SU8000系列高分辨场发射扫描电镜,其中SU8020不光1kv的分辨率提升到1.3nm,并且在探测器设计上有新的突破,配置了Lower、Up-per和Top三个Everhart-Thornley型探测器,可以接受SE、LA-BSE和HA-BSE多种信号,实现微区的形貌衬度、原子序数衬度、结晶衬度和电位衬度的观测;结合选配的STEM探测器。
日立SU-8010是日立高新技术的SEM的全新品牌,新品牌 "REGULUS系列" 电子光学系统进行了最优化处理,使得着陆电压在1KV时分辨率较前代机型提高了约20%。另外,最适合低加速电压下高分辨观察的冷场电子枪可将样品的细节放大,并获得高质量的图片。最大放大倍率也由之前的100万倍提高到了800万倍。除此之外,为了能更好的应对不同样品的测试和保持并发挥出高性能,还对用户辅助工能进行了强化。
日本电子扫描电镜JSM-IT300型是一款高性能,多功能,多用途的钨灯丝扫描电镜。颠覆性的前卫性外观设计还特别吸引眼球。操作改为触摸屏控制,简单化,从此操作电镜非常只能化。
扫描电子显微镜主要用于观察物体的表面形貌像,除此意外,如果配备能谱分析系统,在进行获得样品表面像的时候,还可以对样品的某个定点位置进行元素的半定量分析。根据EDS分析出的元素比例,进行拟合处理,可以大概的判断出样品是什么类型的样品。
德国Zeiss 场发射电子显微镜SIGMA 300 ,ZLGemini镜筒,超高的束流稳定性,超高的束流稳定性,zhuo越的低电压性能,In Lens 探测器,磁性材料高分辨观察,ding级X射线分析设计,便越操作系统设计,超大空间,多接口,升级灵活。
德Zeiss 电子束直写仪 Sigma SEM,利用曝光抗蚀剂,采用电子束直接曝光,可在各种衬底材料表面直写各种图形,图形结构(Z小线宽为10nm),是研究材料在低维度、小尺寸下量子行为的重要工具。广泛应用于纳米器件,光子晶体,低维半导体等前沿领域。
德国Zeiss 场发射电子显微镜SIGMA 300,专利Gemini镜筒,超高的束流稳定性,卓越的低电压性能,In Lens 探测器,磁性材料高分辨观察,顶级X射线分析设计,便越操作系统设计,超大空间,多接口,升级灵活。