TESCAN SOLARIS 超高分辨双束聚焦扫描电镜(FIB-SEM)
TESCAN SOLARIS 超高分辨氙离子源双束聚焦扫描电镜(FIB-SEM)
TESCAN AMBER X 高分辨氙离子源双束聚焦扫描电镜(FIB-SEM)
TESCAN SOLARIS 双束聚焦扫描电子显微镜FIB-SEM
TESCAN AMBER 双束聚焦扫描电子显微镜 FIB-SEM
主要特点
创新的 BrightBeam™SEM 镜筒技术,实现真正的超高分辨(UHR)
*新的 BrightBeam™SEM 镜筒,电磁-静电复合物镜,配置专利的 70°极靴 ;
无磁场超高分辨成像,可以最大化的实现各种分析,包括对磁性样品的分析;
最新的多种探测器,包括透镜内轴向探测器(In-Beam Axial detector )以及多控制器,可选择不同角度和不同能量来收集信号,更好的表面灵敏度和对比度,可以看得更细致,观察更深入;
新型场发射肖特基电子枪的最大束流可达到 400 nA,同时可实现电子束能量的快速改变;
新一代电路系统可同时支持多达 8 个实时信号通道
EquiPower™ 透镜技术可实现高效的散热并保证电子镜筒的稳定性;
电子束减速技术(BDT)进一步加强了低电压下的分辨率,并能同时探测 SE 和 BSE 信号(选配);
创新的 Orage™ Ga FIB 镜筒可完成极具挑战性的纳米工程任务
创新的 Orage™ Ga FIB 镜筒保证绝佳的离子分辨率,30 kV 分辨率优于 2.5 nm ,最低电压可达 500 V;
优秀的低压样品制备能力可以快速制备无损超薄 TEM 样品;
Materials Science(材料科学应用)
FIB 束流最大可达100 nA,SmartMill 级别的高速切割进行截面处理和薄片取出使得加工效率提升了一倍;
快速的 FIB 纳米重构技术,轻松了解样品的超微观信息;
采用新型 OptiGIS 气体注入系统,可快速启动,沉积/蚀刻稳定性极好,一台仪器最多安装6个 OptiGIS;
无漏磁 SEM 成像和高速 FIB 相结合,可以快速不间断地完成铣削/连续成像,适用于 TEM / 原子探针样品制备或 FIB-SEM 断层扫描。
主要应用
Semiconductors & Microelectronics(半导体行业应用)






Materials Science(材料科学应用)






Life Sciences(生命科学应用)




报价:¥10000
已咨询1189次双束聚焦扫描电镜FIB-SEM
报价:¥8000000
已咨询433次FIB 聚焦离子束显微镜
报价:¥8000000
已咨询412次FIB 聚焦离子束显微镜
报价:¥10000
已咨询839次双束聚焦扫描电镜FIB-SEM
S-4800型高分辨场发射扫描电镜(简称S-4800)为日本日立公司于2002年推出的产品。该电镜的电子发射源为冷场,物镜为半浸没式。在高加速电压(15kV)下,S-4800的二次电子图像分辨率为1 nm,这是目前半浸没式冷场发射扫描电镜所能达到的最高水平。该电镜在低加速电压(1kV)下的二次电子图像分辨率为2nm,这有利于观察绝缘或导电性差的样品。S-4800的主要附件为X射线能谱仪。
二手 日立 SEM+EDX 冷场电镜SU8000系列高分辨场发射扫描电镜,其中SU8020不光1kv的分辨率提升到1.3nm,并且在探测器设计上有新的突破,配置了Lower、Up-per和Top三个Everhart-Thornley型探测器,可以接受SE、LA-BSE和HA-BSE多种信号,实现微区的形貌衬度、原子序数衬度、结晶衬度和电位衬度的观测;结合选配的STEM探测器。
日立SU-8010是日立高新技术的SEM的全新品牌,新品牌 "REGULUS系列" 电子光学系统进行了最优化处理,使得着陆电压在1KV时分辨率较前代机型提高了约20%。另外,最适合低加速电压下高分辨观察的冷场电子枪可将样品的细节放大,并获得高质量的图片。最大放大倍率也由之前的100万倍提高到了800万倍。除此之外,为了能更好的应对不同样品的测试和保持并发挥出高性能,还对用户辅助工能进行了强化。
日本电子扫描电镜JSM-IT300型是一款高性能,多功能,多用途的钨灯丝扫描电镜。颠覆性的前卫性外观设计还特别吸引眼球。操作改为触摸屏控制,简单化,从此操作电镜非常只能化。
扫描电子显微镜主要用于观察物体的表面形貌像,除此意外,如果配备能谱分析系统,在进行获得样品表面像的时候,还可以对样品的某个定点位置进行元素的半定量分析。根据EDS分析出的元素比例,进行拟合处理,可以大概的判断出样品是什么类型的样品。
SU3900/SU3800 SE系列作为FE-SEM产品,配置超高分辨率与观察能力。此系列突破了传统SEM产品受安装样品尺寸与重量的限制,通过简单的操作即可实现数据采集。可用于钢铁等工业材料,汽车、航空航天部件等超大、超重样品的观察。 此外,SE系列包括4种型号(两种类型,两个等级),满足众多领域的测试需求。用户可以根据实际用途(如微观结构控制:用于改善电子元件、半导体等材料的功能和性能;异物、缺陷分析:用于提高产品品质)选择适合的产品。
德国Zeiss 场发射电子显微镜SIGMA 300 ,ZLGemini镜筒,超高的束流稳定性,超高的束流稳定性,zhuo越的低电压性能,In Lens 探测器,磁性材料高分辨观察,ding级X射线分析设计,便越操作系统设计,超大空间,多接口,升级灵活。
德Zeiss 电子束直写仪 Sigma SEM,利用曝光抗蚀剂,采用电子束直接曝光,可在各种衬底材料表面直写各种图形,图形结构(Z小线宽为10nm),是研究材料在低维度、小尺寸下量子行为的重要工具。广泛应用于纳米器件,光子晶体,低维半导体等前沿领域。