Diener PlasmaBeam 等离子表面处理装置
日本Ulvac干法等离子刻蚀装置NE-550Z
PVA TePla - 等离子清洗系统
无锡冠亚单流体温控系统装置
Diener 等离子蚀刻机 FEMTO RIE

| 型号 | V1000 | V1000X | V1000XS |
| 等离子模式 | DP/RIE | ||
| 高频电源 | 13.56MHz | ||
| 输出功率 | Max1000W | Max1000 & 1500W | |
| 有效电极尺寸 | W280×D280mm | W300×D300mm | W400×D375mm |
| 电极 | 平行平板 | 2段电极(独立) | 平板(多目的) |
| 反应气体 | 聚合控制器2系统(填充气路另行安装) | ||
| 真空泵(标配) | 约1000L/min | 约1500L/min | 1000 & 1500L/min |
| 安全装置 | 门检测开关、联锁机构、紧急停止开关、温度过升防止器等 | ||

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已咨询1008次等离子装置
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已咨询166次等离子设备
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已咨询159次等离子设备
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已咨询1108次研磨抛光机
报价:¥800000
已咨询3535次真空等离子清洗机
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已咨询87次气相色谱耗材
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已咨询40次气相色谱耗材
美国 Harrick PDC-32G-2 基本型等离子清洗机,该产品能处理塑料、生化材料、PDMS、玻璃或金属半导体、陶瓷、复合材料、高分子聚合物等材料,并对所处理的材料表面带来表面超洁净、杀菌、提高湿润性转变、表面性质改变、提高结合力等处理效果。
美国 Harrick PDC-002 扩展型等离子清洗机,该产品能处理塑料、生化材料、PDMS、玻璃或金属半导体、陶瓷、复合材料、高分子聚合物等材料,并对所处理的材料表面带来表面超洁净、杀菌、提高湿润性转变、表面性质改变、提高结合力等处理效果。
德国 PVA TePla 等离子清洗机PlasmaPen 常压等离子,通过清洁和活化材料表面来改善灌封化合物、粘合剂、油墨、涂料和染料等的浸润性。PlasmaPen™清洁后的表面保证了半导体封装工艺中打线和芯片键合的可靠性。它已经成功地应用于平板显示制造业中提高异方性导电胶膜(ACF)的粘合性。
等离子去胶工艺拥有低污染颗粒,低成本大规模量产,高均匀性与高可复制性等工艺特征。