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原子力显微镜
原子力显微镜（AFM）广泛应用于观察各种微加工器件，包括微流控芯片、光子晶体和半导体器件。扫描电子显微镜（SEM）是常用的微加工结构表征工具，不过在获取结构尺寸的定量信息，特别是高度数据方面，效率有限。相比之下，icspi 原子力显微镜（Redux AFM 和 nGauge AFM）能够在几分钟内轻松获取样品的三维图像，提供高效的表征方法。
Redux AFM 和 nGauge AFM 可以在常温常压的台式环境下进行扫描，无需复杂的样品制备步骤。nGauge AFM 能对导电、半导体或介电材料进行成像，且对样品的导电性没有要求，无需喷金。
此外，电子显微成像通常需要在真空环境下操作，增加了额外的时间和操作复杂性，而使用
Redux AFM 和 nGauge AFM 可避免这些限制，显著提高效率。
Redux AFM 全自动桌面式原子力显微镜
nGauge AFM 便携式原子力显微镜
应用案例
01
nGauge AFM 便携式原子力显微镜
使用 nGauge AFM 检查一个刻蚀的硅器件，该器件在 XY 平面上预期具有 520nm 高的圆角矩形柱状结构，柱间距为 3 微米。大多数情况下，扫描电镜（SEM）能有效显示柱的横向形状和尺寸，但无法提供柱高度的数据信息，只能大致判断它们从表面凸出。
相比之下，nGauge AFM 不仅具有相当甚至更好的横向分辨率，还能够以纳米级精度定量测量结构的高度。这一高度信息可以很容易地从扫描数据中获得：只需在数据上绘制一条线剖面，即可读取不同平台高度之间的差值。
使用 nGauge 原子力显微镜（AFM）获得的样品三维图像
在 AFM 数据上绘制的线剖面
通过调整线剖面的取点位置，可以获得结构的宽度和间距测量值，以判断它们是否符合预期尺寸。
Redux AFM 和 nGauge AFM 还可以让用户获取高精度的表面粗糙度测量以及其他多种统计量。这在半导体行业中具有广泛应用，例如：
验证晶圆在化学机械抛光（CMP）后的粗糙度；
检查光刻胶是否满足日益严格的平整度要求。
数据统计
总体而言，Redux AFM 和 nGauge AFM 使用户能够判断某一工艺是否生成了预期的结构，并实现对微加工器件的定量分析。这不仅有助于对微加工工艺进行更严格的控制，也能提供关于微加工器件的高精度信息。
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